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新規化合物、該化合物を含有する薄膜形成用原料及び薄膜の製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20210553422
申请日：
2020-10-19
公开(公告)号：
JP7554763B2
公开(公告)日：
2024-09-20
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
C07F1/08
IPC分类号：
C07F3/06 C07F7/22 C07F15/06 C23C16/18 H01L21/285
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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