炭素含有量が調整可能な炭窒化ケイ素間隙充填[ja]

被引：0

申请号：

JP20220536758

申请日：

2020-12-17

公开(公告)号：

JP7433437B2

公开(公告)日：

2024-02-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/318

IPC分类号：

C23C16/42

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法律状态信息

共 36 条

[1]

炭素含有量が調整可能な炭窒化ケイ素間隙充填[ja] [P].

日本专利 :JP7745670B2 ,2025-09-29

[2]

炭素含有量が調整可能な炭窒化ケイ素間隙充填[ja] [P].

日本专利 :JP2023507326A ,2023-02-22

[3]

窒素含有量が高い窒化ケイ素膜[ja] [P].

日本专利 :JP2025004005A ,2025-01-14

[4]

窒素含有量が高い窒化ケイ素膜[ja] [P].

日本专利 :JP7150764B2 ,2022-10-11

[5]

窒素含有量が高い窒化ケイ素膜[ja] [P].

日本专利 :JP2023017764A ,2023-02-07

[6]

窒素含有量が高い窒化ケイ素膜[ja] [P].

日本专利 :JP2020526663A ,2020-08-31

[7]

窒化ケイ素粉末、窒化ケイ素焼結体及び回路基板、ならびに窒化ケイ素粉末の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015194552A1 ,2017-04-27

[8]

高い炭素含有量を有するケイ素含有膜の製造方法[ja] [P].

LEI XINJIAN ;

HAIRPIN CHANDRA ;

KIM MOO-SUNG .

日本专利 :JP2022008973A ,2022-01-14

[9]

石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja] [P].

日本专利 :JP6984897B2 ,2021-12-22

[10]

石英ガラス調製時のケイ素含有量の増大[ja] [P].

日本专利 :JP2019502641A ,2019-01-31

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