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互连结构及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411095806.3
申请日
:
2024-08-12
公开(公告)号
:
CN118629952B
公开(公告)日
:
2024-11-26
发明(设计)人
:
高理想
孙茂
张宏光
申请人
:
杭州积海半导体有限公司
申请人地址
:
310020 浙江省杭州市钱塘新区义蓬街道江东大道3899号709-7号
IPC主分类号
:
H01L21/768
IPC分类号
:
H01L23/522
H01L23/528
代理机构
:
上海汉之律师事务所 31378
代理人
:
林安安
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-09-27
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/768申请日:20240812
2024-09-10
公开
公开
2024-11-26
授权
授权
共 50 条
[1]
互连结构及其形成方法
[P].
高理想
论文数:
0
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0
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机构:
杭州积海半导体有限公司
杭州积海半导体有限公司
高理想
;
孙茂
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机构:
杭州积海半导体有限公司
杭州积海半导体有限公司
孙茂
;
张宏光
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机构:
杭州积海半导体有限公司
杭州积海半导体有限公司
张宏光
.
中国专利
:CN118629952A
,2024-09-10
[2]
互连结构及其形成方法
[P].
蔡纾婷
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蔡纾婷
;
林政贤
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林政贤
;
庄俊杰
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庄俊杰
;
杨敦年
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杨敦年
;
刘人诚
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刘人诚
;
洪丰基
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洪丰基
.
中国专利
:CN104051422A
,2014-09-17
[3]
互连结构及其形成方法
[P].
尼古拉斯·C.·弗勒
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0
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尼古拉斯·C.·弗勒
;
蒂莫西·约瑟夫·达尔顿
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蒂莫西·约瑟夫·达尔顿
;
萨特扬纳拉扬纳·文卡塔·尼塔
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萨特扬纳拉扬纳·文卡塔·尼塔
.
中国专利
:CN101000904A
,2007-07-18
[4]
互连结构及其形成方法
[P].
杨罡
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杨罡
.
中国专利
:CN111627855B
,2020-09-04
[5]
互连结构及其形成方法
[P].
杨罡
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0
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杨罡
.
中国专利
:CN110494971A
,2019-11-22
[6]
互连结构及其形成方法
[P].
周鸣
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周鸣
.
中国专利
:CN105336674A
,2016-02-17
[7]
互连结构及其形成方法
[P].
许谢慧娜
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许谢慧娜
;
刘良
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刘良
;
乔仁明
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乔仁明
;
曾笑梅
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曾笑梅
.
中国专利
:CN105826295B
,2016-08-03
[8]
互连结构及其形成方法
[P].
黄义钧
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黄义钧
;
姚志翔
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姚志翔
;
郑价言
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郑价言
;
江文铨
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江文铨
;
黄瀛文
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0
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黄瀛文
.
中国专利
:CN106057772A
,2016-10-26
[9]
铜互连结构及其形成方法
[P].
余振华
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余振华
;
眭晓林
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眭晓林
;
李香寰
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李香寰
;
叶菁馥
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叶菁馥
.
中国专利
:CN105280613B
,2016-01-27
[10]
金属互连结构及其形成方法
[P].
李凡
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李凡
;
张海洋
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0
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0
张海洋
.
中国专利
:CN102832197A
,2012-12-19
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