一种可翻转的碳化硅晶片双面抛光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420651460.X

申请日：

2024-04-01

公开(公告)号：

CN222095706U

公开(公告)日：

2024-12-03

发明(设计)人：

陈宇翔翟会阳李永波李纪宏

申请人：

苏州万龙达电子科技有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区东富路32号A栋205室

IPC主分类号：

B24B29/02

IPC分类号：

B24B41/06 B24B47/12 B24B47/08 B24B47/22

代理机构：

合肥铭辉知识产权代理事务所(普通合伙) 34212

代理人：

梁珍

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-03	授权	授权

共 50 条

[1]

一种碳化硅晶片的抛光装置 [P].

崔素杭 ;

白欣娇 ;

李帅 ;

李晓波 ;

张震 .

中国专利 :CN210060646U ,2020-02-14

[2]

一种用于碳化硅晶片的抛光装置 [P].

贺贤汉 ;

章磊 ;

李有群 ;

陈辉 ;

孙大方 .

中国专利 :CN216504265U ,2022-05-13

[3]

一种用于碳化硅晶片的抛光装置 [P].

白欣娇 ;

李帅 ;

曾昊 ;

申硕 ;

崔素杭 .

中国专利 :CN211916473U ,2020-11-13

[4]

碳化硅晶片抛光设备 [P].

张学良 ;

袁巨龙 ;

邓乾发 ;

杭伟 ;

王佳焕 .

中国专利 :CN115502870A ,2022-12-23

[5]

碳化硅晶片抛光设备 [P].

张学良 ;

袁巨龙 ;

邓乾发 ;

杭伟 ;

王佳焕 .

中国专利 :CN115502870B ,2025-04-29

[6]

一种碳化硅晶片的双面抛光方法 [P].

詹琳 .

中国专利 :CN105666300A ,2016-06-15

[7]

一种用于碳化硅晶片边缘抛光装置 [P].

李旭明 ;

刘治洲 ;

蔡立志 ;

王锡铭 ;

李潇阳 ;

刘岩 .

中国专利 :CN117415698A ,2024-01-19

[8]

一种用于碳化硅晶片边缘抛光装置 [P].

李旭明 ;

刘治洲 ;

蔡立志 ;

王锡铭 ;

李潇阳 ;

刘岩 .

中国专利 :CN117415698B ,2024-02-13

[9]

碳化硅晶片抛光用的制备装置 [P].

高中伟 ;

常杰 ;

张静娜 ;

高增禄 .

中国专利 :CN217194633U ,2022-08-16

[10]

一种碳化硅晶片抛光的废屑清理装置 [P].

李帅 ;

申硕 ;

白欣娇 ;

李怀水 ;

李文广 .

中国专利 :CN210060811U ,2020-02-14

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