一种碳化硅晶片抛光的废屑清理装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920990355.8

申请日：

2019-06-28

公开(公告)号：

CN210060811U

公开(公告)日：

2020-02-14

发明(设计)人：

李帅申硕白欣娇李怀水李文广

申请人：

申请人地址：

050200 河北省石家庄市鹿泉区高新技术开发区昌盛大街21号

IPC主分类号：

B24B5506

IPC分类号：

B24B2700 B24B722 B24B2902

代理机构：

石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙) 13115

代理人：

周大伟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-02-14	授权	授权
2021-06-04	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 55/06 申请日:20190628 授权公告日:20200214 终止日期:20200628

共 50 条

[1]

一种碳化硅晶片的抛光装置 [P].

崔素杭 ;

白欣娇 ;

李帅 ;

李晓波 ;

张震 .

中国专利 :CN210060646U ,2020-02-14

[2]

一种用于碳化硅晶片的抛光装置 [P].

贺贤汉 ;

章磊 ;

李有群 ;

陈辉 ;

孙大方 .

中国专利 :CN216504265U ,2022-05-13

[3]

一种用于碳化硅晶片的抛光装置 [P].

白欣娇 ;

李帅 ;

曾昊 ;

申硕 ;

崔素杭 .

中国专利 :CN211916473U ,2020-11-13

[4]

碳化硅晶片抛光设备 [P].

张学良 ;

袁巨龙 ;

邓乾发 ;

杭伟 ;

王佳焕 .

中国专利 :CN115502870A ,2022-12-23

[5]

碳化硅晶片抛光设备 [P].

张学良 ;

袁巨龙 ;

邓乾发 ;

杭伟 ;

王佳焕 .

中国专利 :CN115502870B ,2025-04-29

[6]

碳化硅晶片抛光用的制备装置 [P].

高中伟 ;

常杰 ;

张静娜 ;

高增禄 .

中国专利 :CN217194633U ,2022-08-16

[7]

一种可翻转的碳化硅晶片双面抛光装置 [P].

陈宇翔 ;

翟会阳 ;

李永波 ;

李纪宏 .

中国专利 :CN222095706U ,2024-12-03

[8]

碳化硅晶片的抛光方法 [P].

蔡子萱 ;

施英汝 ;

杨咏皓 ;

吴伟立 .

中国专利 :CN114388347B ,2025-08-12

[9]

碳化硅晶片的抛光方法 [P].

蔡子萱 ;

施英汝 ;

杨咏皓 ;

吴伟立 .

中国专利 :CN114388347A ,2022-04-22

[10]

一种用于碳化硅晶片边缘抛光装置 [P].

李旭明 ;

刘治洲 ;

蔡立志 ;

王锡铭 ;

李潇阳 ;

刘岩 .

中国专利 :CN117415698A ,2024-01-19

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