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OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411231854.0
申请日：
2024-09-03
公开(公告)号：
CN118915374A
公开(公告)日：
2024-11-08
发明(设计)人：
徐世斌 高大为 吴永玉 任堃 鲁苗苗 颜哲钜 姚淼红 张馨元 李翰轩
申请人：
浙江创芯集成电路有限公司
申请人地址：
311200 浙江省杭州市萧山区经济技术开发区建设三路733号
IPC主分类号：
G03F1/36
IPC分类号：
G03F7/20
代理机构：
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人：
吴敏
法律状态：
公开
国省代码：
浙江省 杭州市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-11-08 公开 公开
2024-11-26 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20240903
共 50 条
[1]
OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P]. 
徐世斌 ;
高大为 ;
吴永玉 ;
任堃 ;
鲁苗苗 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
张馨元 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN119002167B ,2025-11-04
[2]
OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P]. 
徐世斌 ;
高大为 ;
吴永玉 ;
任堃 ;
鲁苗苗 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
张馨元 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN119002167A ,2024-11-22
[3]
OPC模型的建立方法和装置、光学临近修正方法和设备、存储介质 [P]. 
张馨元 ;
任堃 ;
徐世斌 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN119356019A ,2025-01-24
[4]
光学邻近修正模型的建立方法、系统、设备及存储介质 [P]. 
张馨元 ;
任堃 ;
徐世斌 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN121142888A ,2025-12-16
[5]
光学邻近修正模型的建立方法及其系统、设备和存储介质 [P]. 
胡旭 ;
项偲 ;
贾敏 ;
王兴荣 .
中国专利 :CN119002165A ,2024-11-22
[6]
建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117950280A ,2024-04-30
[7]
建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117950280B ,2024-06-25
[8]
OPC模型及其建立方法和系统、OPC方法、设备及存储介质 [P]. 
杜杳隽 .
中国专利 :CN116300297B ,2025-09-02
[9]
光学邻近修正方法及其修正装置、可读存储介质 [P]. 
徐世斌 ;
高大为 ;
吴永玉 ;
任堃 ;
鲁苗苗 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
张馨元 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN119668018A ,2025-03-21
[10]
一种建立OPC模型的方法以及光学邻近修正方法 [P]. 
杜杳隽 .
中国专利 :CN110824829A ,2020-02-21
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