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光学邻近修正模型的建立方法、系统、设备及存储介质

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202511624035.7
申请日：
2025-11-07
公开(公告)号：
CN121142888A
公开(公告)日：
2025-12-16
发明(设计)人：
张馨元 任堃 徐世斌 颜哲钜 姚淼红 李翰轩
申请人：
浙江创芯集成电路有限公司
申请人地址：
311200 浙江省杭州市萧山区宁围街道平澜路2118号浙江大学杭州国际科创中心水博园区11幢4层-5层（自主申报）
IPC主分类号：
G03F1/36
IPC分类号：
G03F7/20
代理机构：
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327
代理人：
潘彦君
法律状态：
公开
国省代码：
浙江省 杭州市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-12-16 公开 公开
共 50 条
[1]
光学邻近修正模型的建立方法及其系统、设备和存储介质 [P]. 
胡旭 ;
项偲 ;
贾敏 ;
王兴荣 .
中国专利 :CN119002165A ,2024-11-22
[2]
OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P]. 
徐世斌 ;
高大为 ;
吴永玉 ;
任堃 ;
鲁苗苗 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
张馨元 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN118915374A ,2024-11-08
[3]
OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P]. 
徐世斌 ;
高大为 ;
吴永玉 ;
任堃 ;
鲁苗苗 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
张馨元 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN119002167B ,2025-11-04
[4]
OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P]. 
徐世斌 ;
高大为 ;
吴永玉 ;
任堃 ;
鲁苗苗 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
张馨元 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN119002167A ,2024-11-22
[5]
光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法 [P]. 
陈权 .
中国专利 :CN113050363B ,2025-03-18
[6]
光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法 [P]. 
陈权 .
中国专利 :CN113050363A ,2021-06-29
[7]
光学邻近修正模型校准方法、存储介质及终端 [P]. 
胡月 ;
王健 ;
王良 .
中国专利 :CN121091592A ,2025-12-09
[8]
OPC模型的建立方法和装置、光学临近修正方法和设备、存储介质 [P]. 
张馨元 ;
任堃 ;
徐世斌 ;
颜哲钜 ;
姚淼红 ;
李翰轩 .
中国专利 :CN119356019A ,2025-01-24
[9]
建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117950280A ,2024-04-30
[10]
建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117950280B ,2024-06-25
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