光学邻近修正模型的建立方法及其系统、设备和存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202310579430.2

申请日：

2023-05-22

公开(公告)号：

CN119002165A

公开(公告)日：

2024-11-22

发明(设计)人：

胡旭项偲贾敏王兴荣

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

申请人地址：

201203 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区张江路18号

IPC主分类号：

G03F1/36

IPC分类号：

代理机构：

上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327

代理人：

高静

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/36申请日:20230522
2024-11-22	公开	公开

共 50 条

[1]

光学邻近修正模型的建立方法、系统、设备及存储介质 [P].

张馨元 ;

任堃 ;

徐世斌 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN121142888A ,2025-12-16

[2]

光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法 [P].

陈权 .

中国专利 :CN113050363B ,2025-03-18

[3]

光学邻近修正模型的建立方法以及光学邻近修正方法 [P].

陈权 .

中国专利 :CN113050363A ,2021-06-29

[4]

OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P].

徐世斌 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

鲁苗苗 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

张馨元 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN118915374A ,2024-11-08

[5]

OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P].

徐世斌 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

鲁苗苗 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

张馨元 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN119002167B ,2025-11-04

[6]

OPC模型的建立方法和装置、光学邻近修正方法和设备、存储介质 [P].

徐世斌 ;

高大为 ;

吴永玉 ;

任堃 ;

鲁苗苗 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

张馨元 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN119002167A ,2024-11-22

[7]

建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117950280A ,2024-04-30

[8]

建立光学邻近效应修正模型的方法、电子设备和存储介质 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117950280B ,2024-06-25

[9]

OPC模型的建立方法和装置、光学临近修正方法和设备、存储介质 [P].

张馨元 ;

任堃 ;

徐世斌 ;

颜哲钜 ;

姚淼红 ;

李翰轩 .

中国专利 :CN119356019A ,2025-01-24

[10]

光学邻近修正模型校准方法、存储介质及终端 [P].

胡月 ;

王健 ;

王良 .

中国专利 :CN121091592A ,2025-12-09

← 1 2 3 4 5 →