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一种适用于半导体晶圆外围的打废装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202323515562.3
申请日
:
2023-12-22
公开(公告)号
:
CN222088540U
公开(公告)日
:
2024-11-29
发明(设计)人
:
陈李广
史国辉
申请人
:
上海芯哲微电子科技股份有限公司
申请人地址
:
201400 上海市奉贤区环城东路323号10幢
IPC主分类号
:
H01L21/67
IPC分类号
:
H01L21/677
H01L21/687
代理机构
:
北京七夏专利代理事务所(普通合伙) 11632
代理人
:
刘毓珍
法律状态
:
授权
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-29
授权
授权
共 50 条
[1]
适用于半导体晶圆清洗装置
[P].
程玉学
论文数:
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0
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程玉学
;
杨雪梅
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杨雪梅
.
中国专利
:CN217182141U
,2022-08-12
[2]
一种适用于半导体的晶圆夹持机构
[P].
姜小蛟
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机构:
沈阳富创精密设备股份有限公司
沈阳富创精密设备股份有限公司
姜小蛟
;
刘鑫
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机构:
沈阳富创精密设备股份有限公司
沈阳富创精密设备股份有限公司
刘鑫
.
中国专利
:CN223023262U
,2025-06-24
[3]
一种适用于多规格的半导体晶圆传输设备
[P].
王迪杏
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机构:
无锡迪渊特科技有限公司
无锡迪渊特科技有限公司
王迪杏
;
王宁
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机构:
无锡迪渊特科技有限公司
无锡迪渊特科技有限公司
王宁
;
王金裕
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机构:
无锡迪渊特科技有限公司
无锡迪渊特科技有限公司
王金裕
.
中国专利
:CN221041064U
,2024-05-28
[4]
一种半导体晶圆的检测装置
[P].
杜俊坤
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杜俊坤
;
李坤
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李坤
.
中国专利
:CN207752966U
,2018-08-21
[5]
用于半导体晶圆的切割装置
[P].
彭兴义
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彭兴义
.
中国专利
:CN215008147U
,2021-12-03
[6]
适用于半导体晶圆研磨抛光用的固定环结构
[P].
唐中维
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唐中维
.
中国专利
:CN204183389U
,2015-03-04
[7]
一种适用于半导体晶圆研磨抛光用的固定环结构
[P].
王永净
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王永净
;
陈基生
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陈基生
.
中国专利
:CN217344993U
,2022-09-02
[8]
一种用于半导体晶圆的涂胶装置
[P].
邵西河
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机构:
江苏莱普激光技术有限公司
江苏莱普激光技术有限公司
邵西河
;
陈小龙
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机构:
江苏莱普激光技术有限公司
江苏莱普激光技术有限公司
陈小龙
.
中国专利
:CN222300634U
,2025-01-03
[9]
一种适用于12寸半导体晶圆双面抛光设备的EFAM控制装置
[P].
齐风
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齐风
;
李伦
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李伦
;
张淳
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张淳
;
张丰
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张丰
;
戴超
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戴超
;
李健乐
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李健乐
;
邢子淳
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邢子淳
;
贾洁
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贾洁
;
孙晨光
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孙晨光
;
王彦君
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王彦君
.
中国专利
:CN213716866U
,2021-07-16
[10]
适用于半导体晶圆制造的弹簧针测试连接器
[P].
魏华鹏
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魏华鹏
.
中国专利
:CN208937620U
,2019-06-04
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