含金属的膜形成用组成物及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410733204.X

申请日：

2024-06-07

公开(公告)号：

CN119105234A

公开(公告)日：

2024-12-10

发明(设计)人：

小林直贵石绵健汰长町伸宏岩森颂平郡大佑

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/00

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-10	公开	公开
2024-12-27	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240607

共 50 条

[1]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN118239972A ,2024-06-25

[2]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 .

日本专利 :CN118561892A ,2024-08-30

[3]

含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 ;

长町伸宏 .

日本专利 :CN119781245A ,2025-04-08

[4]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN118307578A ,2024-07-09

[5]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法 [P].

岩森颂平 ;

小林直贵 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 ;

长町伸宏 .

日本专利 :CN120192340A ,2025-06-24

[6]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、图案形成方法、及含金属的膜形成用化合物的制造方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN119285667A ,2025-01-10

[7]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

长町伸宏 ;

小林直贵 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 ;

岩森颂平 .

日本专利 :CN120329340A ,2025-07-18

[8]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

岩森颂平 ;

小林直贵 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 .

日本专利 :CN119528966A ,2025-02-28

[9]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

小林直贵 ;

长町伸宏 ;

石绵健汰 ;

郡大佑 .

日本专利 :CN120987989A ,2025-11-21

[10]

含金属的膜形成用化合物、含金属的膜形成用组成物、及图案形成方法 [P].

岩森颂平 ;

小林直贵 ;

郡大佑 ;

石绵健汰 .

日本专利 :CN119528965A ,2025-02-28

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