一种气体导流结构及化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411441747.0

申请日：

2024-10-16

公开(公告)号：

CN118957539A

公开(公告)日：

2024-11-15

发明(设计)人：

周皓天魏兴卿杨启忠魏晓庆陈俊镒林子杰刘林峰赵磊李井龙

申请人：

光驰半导体技术（上海）有限公司

申请人地址：

200949 上海市宝山区潘川路1507号

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

代理机构：

北京品源专利代理有限公司 11332

代理人：

季承

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-03	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20241016
2024-11-15	公开	公开
2025-11-14	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回IPC(主分类):C23C 16/455申请公布日:20241115

共 50 条

[1]

化学气相沉积装置 [P].

胡广严 ;

吴龙江 ;

林宗贤 .

中国专利 :CN207331057U ,2018-05-08

[2]

化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置 [P].

龙梅丽 .

中国专利 :CN217104063U ,2022-08-02

[3]

化学气相沉积装置和化学气相沉积方法 [P].

酒井士郎 ;

高松勇吉 ;

森勇次 ;

直井弘之 ;

H·X·王 ;

石滨义康 ;

纲岛丰 .

中国专利 :CN1259450C ,2002-04-17

[4]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[5]

化学气相沉积炉及化学气相沉积装置 [P].

杨竣焜 .

中国专利 :CN120575152A ,2025-09-02

[6]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘忠范 ;

亓月 ;

杨钰垚 ;

袁昊 .

中国专利 :CN118814133A ,2024-10-22

[7]

化学气相沉积装置及化学气相沉积方法 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN102851651A ,2013-01-02

[8]

化学气相沉积装置 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN223292634U ,2025-09-02

[9]

化学气相沉积装置 [P].

鲁天豪 ;

薛运周 ;

何少龙 .

中国专利 :CN222975287U ,2025-06-13

[10]

化学气相沉积装置 [P].

周向阳 .

中国专利 :CN222923230U ,2025-05-30

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