用于X射线荧光系统中的X射线光学元件的调节单元和X射线荧光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380027558.6

申请日：

2023-01-19

公开(公告)号：

CN118901002A

公开(公告)日：

2024-11-05

发明(设计)人：

布鲁诺·施罗瑟

申请人：

赫尔穆特费舍尔股份有限公司电子及测量技术研究所

申请人地址：

德国辛德尔芬根

IPC主分类号：

G01N23/20008

IPC分类号：

G01N23/223 G02B7/00

代理机构：

北京知帆远景知识产权代理有限公司 11890

代理人：

苏志莲

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-22	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G01N 23/20008申请日:20230119
2024-11-05	公开	公开

共 50 条

[1]

X射线荧光系统 [P].

B·甘立 ;

J·蒂克纳 .

澳大利亚专利 :CN118202224A ,2024-06-14

[2]

偏振能量色散x射线荧光系统和方法 [P].

陈泽武 ;

魏富忠 ;

J·J·斯皮纳佐拉三世 ;

高志帆 ;

夏耀彪 .

中国专利 :CN117517371A ,2024-02-06

[3]

X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法 [P].

T·科斯基宁 ;

A·佩里 ;

H·西皮拉 .

:CN112292593B ,2024-10-25

[4]

X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法 [P].

T·科斯基宁 ;

A·佩里 ;

H·西皮拉 .

中国专利 :CN112292593A ,2021-01-29

[5]

X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法 [P].

T·科斯基宁 ;

A·佩里 ;

H·西皮拉 .

:CN112313505B ,2025-01-03

[6]

X射线荧光分析仪和用于执行X射线荧光分析的方法 [P].

T·科斯基宁 ;

A·佩里 ;

H·西皮拉 .

中国专利 :CN112313505A ,2021-02-02

[7]

用于检测材料的X射线荧光系统和方法以及控制系统 [P].

Y·格罗夫 ;

T·吉斯列夫 ;

N·佑兰 ;

H·阿龙 ;

M·卡普林斯基 .

中国专利 :CN109997031B ,2019-07-09

[8]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

高原稔幸 .

中国专利 :CN105628724A ,2016-06-01

[9]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

深井隆行 ;

的场吉毅 ;

大柿真毅 .

中国专利 :CN109459458A ,2019-03-12

[10]

荧光X射线分析装置和荧光X射线分析方法 [P].

长谷川清 ;

一宫丰 ;

泷口英树 .

中国专利 :CN102384924A ,2012-03-21

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