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一种单晶硅片清洗用槽式清洗机
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202310605307.3
申请日：
2023-05-26
公开(公告)号：
CN116741664B
公开(公告)日：
2024-11-01
发明(设计)人：
郭芳伟
叶永洋
巩尊秀
申请人：
徐州联超光电科技有限公司
申请人地址：
221000 江苏省徐州市丰县经济开发区智能终端产业园二期C1、C3栋
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
B08B3/02
B08B3/12
B08B13/00
代理机构：
苏州企航知识产权代理事务所(普通合伙) 32354
代理人：
黄丽
法律状态：
授权
国省代码：
江苏省
徐州市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-11-01 | 授权 | 授权 |
| 2025-10-31 | 专利权质押登记、变更及注销 | 专利权质押登记IPC(主分类):H01L 21/67登记号:Y2025980044115登记日:20251014出质人:徐州联超光电科技有限公司质权人:北京银行股份有限公司南京分行发明名称:一种单晶硅片清洗用槽式清洗机申请日:20230526授权公告日:20241101 |