一种多沟道HEMT器件及其制作方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410915435.2
申请日
2024-07-09
公开(公告)号
CN118888580A
公开(公告)日
2024-11-01
发明(设计)人
张安邦
申请人
上海新微半导体有限公司
申请人地址
200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区飞渡路2020号
IPC主分类号
H01L29/778
IPC分类号
H01L29/08 H01L23/34 H01L21/335
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
陈挺娴
法律状态
公开
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
一种多沟道HEMT器件及其制作方法 [P]. 
张安邦 .
中国专利 :CN118888580B ,2025-09-23
[2]
HEMT器件及其制作方法 [P]. 
萨梅·哈利勒 ;
卡里姆·S·保特罗斯 ;
凯苏克·稀恩奥哈拉 .
中国专利 :CN104412388A ,2015-03-11
[3]
GaN基HEMT器件及其制作方法 [P]. 
谭庶欣 .
中国专利 :CN111223777A ,2020-06-02
[4]
一种多沟道GaN HEMT器件及制作方法 [P]. 
高旭 .
中国专利 :CN115332322A ,2022-11-11
[5]
GaN HEMT器件及其制作方法 [P]. 
陈一峰 .
中国专利 :CN105226093B ,2016-01-06
[6]
HEMT器件及其制作方法 [P]. 
向鹏 ;
程凯 .
中国专利 :CN118140312A ,2024-06-04
[7]
一种GaN HEMT器件的制作方法 [P]. 
林书勋 .
中国专利 :CN107240549B ,2017-10-10
[8]
一种HEMT器件及其制作方法 [P]. 
尹雪兵 ;
李成果 ;
曾巧玉 ;
葛晓明 ;
陈志涛 .
中国专利 :CN112614886B ,2021-04-06
[9]
一种HEMT器件及其制作方法 [P]. 
肖霞 ;
何元浩 .
中国专利 :CN117832255A ,2024-04-05
[10]
一种GaN基HEMT器件及其制作方法 [P]. 
张正海 ;
张宗民 .
中国专利 :CN103489911A ,2014-01-01