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一种多沟道HEMT器件及其制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410915435.2
申请日
:
2024-07-09
公开(公告)号
:
CN118888580A
公开(公告)日
:
2024-11-01
发明(设计)人
:
张安邦
申请人
:
上海新微半导体有限公司
申请人地址
:
200120 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区飞渡路2020号
IPC主分类号
:
H01L29/778
IPC分类号
:
H01L29/08
H01L23/34
H01L21/335
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
陈挺娴
法律状态
:
公开
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-01
公开
公开
2025-09-23
授权
授权
2024-11-19
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 29/778申请日:20240709
共 50 条
[1]
一种多沟道HEMT器件及其制作方法
[P].
张安邦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海新微半导体有限公司
上海新微半导体有限公司
张安邦
.
中国专利
:CN118888580B
,2025-09-23
[2]
HEMT器件及其制作方法
[P].
萨梅·哈利勒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
萨梅·哈利勒
;
卡里姆·S·保特罗斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
卡里姆·S·保特罗斯
;
凯苏克·稀恩奥哈拉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
凯苏克·稀恩奥哈拉
.
中国专利
:CN104412388A
,2015-03-11
[3]
GaN基HEMT器件及其制作方法
[P].
谭庶欣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
谭庶欣
.
中国专利
:CN111223777A
,2020-06-02
[4]
一种多沟道GaN HEMT器件及制作方法
[P].
高旭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高旭
.
中国专利
:CN115332322A
,2022-11-11
[5]
GaN HEMT器件及其制作方法
[P].
陈一峰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈一峰
.
中国专利
:CN105226093B
,2016-01-06
[6]
HEMT器件及其制作方法
[P].
向鹏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
苏州晶湛半导体有限公司
苏州晶湛半导体有限公司
向鹏
;
程凯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
苏州晶湛半导体有限公司
苏州晶湛半导体有限公司
程凯
.
中国专利
:CN118140312A
,2024-06-04
[7]
一种GaN HEMT器件的制作方法
[P].
林书勋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
林书勋
.
中国专利
:CN107240549B
,2017-10-10
[8]
一种HEMT器件及其制作方法
[P].
尹雪兵
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
尹雪兵
;
李成果
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
李成果
;
曾巧玉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
曾巧玉
;
葛晓明
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
葛晓明
;
陈志涛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈志涛
.
中国专利
:CN112614886B
,2021-04-06
[9]
一种HEMT器件及其制作方法
[P].
肖霞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华润微电子(重庆)有限公司
华润微电子(重庆)有限公司
肖霞
;
何元浩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
华润微电子(重庆)有限公司
华润微电子(重庆)有限公司
何元浩
.
中国专利
:CN117832255A
,2024-04-05
[10]
一种GaN基HEMT器件及其制作方法
[P].
张正海
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张正海
;
张宗民
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
张宗民
.
中国专利
:CN103489911A
,2014-01-01
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