一种用于高分辨像元制造的量子点光刻胶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411269411.0

申请日：

2024-09-11

公开(公告)号：

CN118795731B

公开(公告)日：

2024-12-03

发明(设计)人：

曾海波相恒阳张坤单青松张爱迪

申请人：

南京理工大学

申请人地址：

210094 江苏省南京市孝陵卫200号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C09K11/02 C09K11/66

代理机构：

南京理工大学专利中心 32203

代理人：

邹伟红

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省南京市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-03	授权	授权
2024-11-05	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240911
2024-10-18	公开	公开

共 50 条

[1]

一种用于高分辨像元制造的量子点光刻胶 [P].

曾海波 ;

相恒阳 ;

张坤 ;

单青松 ;

张爱迪 .

中国专利 :CN118795731A ,2024-10-18

[2]

用于MicroLED色转换层的高分辨量子点光刻胶及其制备方法 [P].

刘泽栖 ;

陈斌斌 ;

李荣生 .

中国专利 :CN121187078A ,2025-12-23

[3]

一种基于POSS的量子点光刻胶、量子点膜及其应用 [P].

杨高岭 ;

车艳玲 ;

石建兵 ;

钟海政 .

中国专利 :CN118567181A ,2024-08-30

[4]

一种高分辨率光刻胶 [P].

齐国强 ;

顾大公 ;

岳力挽 ;

李珊珊 ;

马潇 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112925166A ,2021-06-08

[5]

用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶 [P].

安杨翔 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

杨彦 ;

张威 ;

王玉龙 ;

黄丞 .

中国专利 :CN120289699A ,2025-07-11

[6]

量子点薄膜的无光刻胶光致图案化方法 [P].

张昊 ;

李景虹 ;

卢少勇 .

中国专利 :CN111781803B ,2020-10-16

[7]

一种量子点光刻胶及其制备方法 [P].

岳春波 ;

宋志成 ;

刘振国 .

中国专利 :CN106957645B ,2017-07-18

[8]

一种量子点光刻胶中树脂侧链基团改性方法 [P].

陈恩果 ;

周正 ;

高晨 ;

杨辉龙 ;

叶芸 ;

徐胜 ;

郭太良 .

中国专利 :CN119882350A ,2025-04-25

[9]

一种量子点光刻胶薄膜及其制备方法 [P].

郝俊杰 ;

陈立国 ;

周宾倩 ;

潘涛 ;

罗永淇 ;

胡文楷 ;

周宇 ;

程佳吉 ;

陈宇龙 .

中国专利 :CN119126489A ,2024-12-13

[10]

一种使用由有机-无机混合涂层组成的量子点光刻胶的量子点光刻方法 [P].

赵振合 ;

刘絮霏 .

中国专利 :CN114779585A ,2022-07-22

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