一种量子点光刻胶薄膜及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411286453.5

申请日：

2024-09-13

公开(公告)号：

CN119126489A

公开(公告)日：

2024-12-13

发明(设计)人：

郝俊杰陈立国周宾倩潘涛罗永淇胡文楷周宇程佳吉陈宇龙

申请人：

深圳技术大学

申请人地址：

518000 广东省深圳市坪山区石井街道兰田路3002号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

代理机构：

广东普润知识产权代理有限公司 44804

代理人：

寇闯

法律状态：

公开

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-13	公开	公开
2024-12-31	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240913

共 50 条

[1]

一种量子点光刻胶及其制备方法和应用 [P].

张超 ;

徐苏言 ;

仉旭 ;

庄永漳 .

中国专利 :CN118068645A ,2024-05-24

[2]

一种量子点光刻胶及其制备方法 [P].

岳春波 ;

宋志成 ;

刘振国 .

中国专利 :CN106957645B ,2017-07-18

[3]

一种光刻胶薄膜的制备方法和光刻胶薄膜 [P].

李弋舟 ;

段聪 ;

钟选飞 .

中国专利 :CN118466116A ,2024-08-09

[4]

一种量子点光刻胶的制备及其使用方法 [P].

宋婷 ;

田冰 ;

赵炜珍 ;

刘力菲 ;

刘康 ;

李贵东 ;

梁晨虹 ;

宋涛 .

中国专利 :CN120315250A ,2025-07-15

[5]

一种量子点光刻胶及其制备方法、量子点彩膜的制备方法 [P].

朱舒卷 ;

曹蔚然 .

中国专利 :CN109976089A ,2019-07-05

[6]

量子点光刻胶及其制备方法、显示器 [P].

丁斌 ;

庄瑞荣 ;

庄瑞睦 .

中国专利 :CN121142909A ,2025-12-16

[7]

一种疏水光刻胶薄膜的制备方法以及疏水光刻胶薄膜 [P].

陈鹏 ;

顾大公 ;

马潇 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112904675A ,2021-06-04

[8]

一种基于POSS的量子点光刻胶、量子点膜及其应用 [P].

杨高岭 ;

车艳玲 ;

石建兵 ;

钟海政 .

中国专利 :CN118567181A ,2024-08-30

[9]

光刻胶及其制备方法 [P].

陈黎暄 .

中国专利 :CN108089400B ,2018-05-29

[10]

光刻胶及其制备方法 [P].

龚文亮 .

中国专利 :CN109283793B ,2019-01-29

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