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一种量子点光刻胶薄膜及其制备方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411286453.5
申请日：
2024-09-13
公开(公告)号：
CN119126489A
公开(公告)日：
2024-12-13
发明(设计)人：
郝俊杰 陈立国 周宾倩 潘涛 罗永淇 胡文楷 周宇 程佳吉 陈宇龙
申请人：
深圳技术大学
申请人地址：
518000 广东省深圳市坪山区石井街道兰田路3002号
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
代理机构：
广东普润知识产权代理有限公司 44804
代理人：
寇闯
法律状态：
公开
国省代码：
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-12-13 公开 公开
2024-12-31 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240913
共 50 条
[41]
量子点光刻胶、量子点彩膜基板和显示装置 [P]. 
席玉坤 ;
方龙 ;
王允军 .
中国专利 :CN107102514B ,2017-08-29
[42]
一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用 [P]. 
张宁 ;
王文芳 ;
房彩琴 ;
董栋 ;
刘忠范 .
中国专利 :CN119775469B ,2025-08-22
[43]
一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用 [P]. 
张宁 ;
王文芳 ;
房彩琴 ;
董栋 ;
刘忠范 .
中国专利 :CN119775469A ,2025-04-08
[44]
用于MicroLED色转换层的高分辨量子点光刻胶及其制备方法 [P]. 
刘泽栖 ;
陈斌斌 ;
李荣生 .
中国专利 :CN121187078A ,2025-12-23
[45]
光刻胶点胶匀胶装置 [P]. 
刘志宇 ;
陈辉 ;
吴大林 ;
武啸 ;
苏晨宇 ;
高亚钗 ;
牛凤晓 ;
吴靖轩 ;
谈晓峰 ;
刘强 .
中国专利 :CN223717532U ,2025-12-26
[46]
光刻胶组合物及其制备方法 [P]. 
胡凡华 ;
卢克军 ;
朴大然 ;
张腾 ;
何卿 .
中国专利 :CN111505902A ,2020-08-07
[47]
纳米压印光刻胶及其制备方法 [P]. 
陈廷忠 ;
周兴 ;
王兆民 .
中国专利 :CN119024644B ,2025-10-28
[48]
光刻胶成膜树脂及其光刻胶组合物的制备方法 [P]. 
李永斌 ;
何龙龙 .
中国专利 :CN112679653B ,2021-04-20
[49]
光刻胶组合物及其制备方法 [P]. 
胡凡华 ;
卢克军 ;
朴大然 ;
张腾 ;
何卿 .
中国专利 :CN111505902B ,2024-02-20
[50]
纳米压印光刻胶及其制备方法 [P]. 
陈廷忠 ;
周兴 ;
王兆民 .
中国专利 :CN119024644A ,2024-11-26
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