一种量子点光刻胶薄膜及其制备方法

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专利类型
发明
申请号
CN202411286453.5
申请日
2024-09-13
公开(公告)号
CN119126489A
公开(公告)日
2024-12-13
发明(设计)人
郝俊杰 陈立国 周宾倩 潘涛 罗永淇 胡文楷 周宇 程佳吉 陈宇龙
申请人
深圳技术大学
申请人地址
518000 广东省深圳市坪山区石井街道兰田路3002号
IPC主分类号
G03F7/004
IPC分类号
代理机构
广东普润知识产权代理有限公司 44804
代理人
寇闯
法律状态
公开
国省代码
广东省 深圳市
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共 50 条
[21]
一种光刻胶及其制备方法 [P]. 
安海岩 ;
王天晗 ;
郭可满 ;
程谦 ;
胡维 .
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[22]
一种光刻胶及其制备方法 [P]. 
汪亚民 ;
喻建兵 .
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[23]
量子点光刻胶及其制备方法、显示基板和显示装置 [P]. 
石戈 ;
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方正 ;
张世玉 ;
杨松 ;
刘玉杰 ;
王宇瑶 ;
韩佳慧 ;
孙艳六 ;
陈小川 ;
董学 .
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[24]
树脂及其制备方法、光刻胶、光刻方法 [P]. 
王辉 ;
廖辉华 ;
宋智辉 ;
康报虹 .
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[25]
量子点、量子点光刻胶、显示基板及显示装置 [P]. 
方龙 ;
宋研君 ;
徐飞阳 ;
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[26]
光刻胶薄膜的制作方法 [P]. 
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[27]
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孙逊运 ;
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[29]
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[30]
一种KrF光刻胶及其制备方法 [P]. 
陈韦帆 ;
徐亮 ;
郑祥飞 ;
黄巍 .
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