一种量子点光刻胶中树脂侧链基团改性方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411865830.0

申请日：

2024-12-18

公开(公告)号：

CN119882350A

公开(公告)日：

2025-04-25

发明(设计)人：

陈恩果周正高晨杨辉龙叶芸徐胜郭太良

申请人：

闽都创新实验室

申请人地址：

350108 福建省福州市闽侯县海西高新区科技园高新大道8号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/027 C08F220/06 C08F220/18 C08F220/40

代理机构：

福州元创专利商标代理有限公司 35100

代理人：

薛金才;蔡学俊

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20241218
2025-04-25	公开	公开

共 50 条

[1]

一种光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN121135937A ,2025-12-16

[2]

一种量子点光刻胶及其制备方法 [P].

岳春波 ;

宋志成 ;

刘振国 .

中国专利 :CN106957645B ,2017-07-18

[3]

一种量子点光刻胶及其制备方法、量子点彩膜的制备方法 [P].

朱舒卷 ;

曹蔚然 .

中国专利 :CN109976089A ,2019-07-05

[4]

一种低缺陷的193nm光刻胶、光刻胶树脂及其制备方法 [P].

顾大公 ;

许东升 ;

余绍山 ;

齐国强 ;

岳力挽 ;

马潇 ;

李珊珊 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112876602A ,2021-06-01

[5]

一种光刻胶树脂单体 [P].

张猛 ;

王巧玲 .

中国专利 :CN112159341A ,2021-01-01

[6]

一种量子点光刻胶薄膜及其制备方法 [P].

郝俊杰 ;

陈立国 ;

周宾倩 ;

潘涛 ;

罗永淇 ;

胡文楷 ;

周宇 ;

程佳吉 ;

陈宇龙 .

中国专利 :CN119126489A ,2024-12-13

[7]

一种酸活性树脂以及光刻胶 [P].

顾大公 ;

许东升 ;

余绍山 ;

齐国强 ;

岳力挽 ;

马潇 ;

李珊珊 ;

毛智彪 ;

许从应 .

中国专利 :CN112920314A ,2021-06-08

[8]

一种正性化学放大光刻胶树脂、制备方法及光刻胶 [P].

纪学顺 ;

蒋志强 ;

马吉全 .

中国专利 :CN120775098A ,2025-10-14

[9]

一种用于高分辨像元制造的量子点光刻胶 [P].

曾海波 ;

相恒阳 ;

张坤 ;

单青松 ;

张爱迪 .

中国专利 :CN118795731B ,2024-12-03

[10]

一种用于高分辨像元制造的量子点光刻胶 [P].

曾海波 ;

相恒阳 ;

张坤 ;

单青松 ;

张爱迪 .

中国专利 :CN118795731A ,2024-10-18

← 1 2 3 4 5 →