一种提高碳化硅晶圆去除速率和表面质量的抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410825213.1

申请日：

2024-06-25

公开(公告)号：

CN118834601A

公开(公告)日：

2024-10-25

发明(设计)人：

张保国秦思慧

申请人：

河北工业大学

申请人地址：

300130 天津市红桥区丁字沽光荣道8号河北工业大学东院

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

B24B37/04 B24B49/00 B24B37/005

代理机构：

天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210

代理人：

赵凤英

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

河北省廊坊市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-12	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20240625
2024-10-25	公开	公开

共 50 条

[1]

一种碳化硅晶圆抛光液 [P].

梁振 .

中国专利 :CN116656243B ,2024-03-29

[2]

一种高质量碳化硅抛光液及碳化硅晶圆 [P].

陈晓青 .

中国专利 :CN118497877A ,2024-08-16

[3]

一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法 [P].

颜杰钦 ;

郭东勇 ;

李泽辉 .

中国专利 :CN120888243A ,2025-11-04

[4]

一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法 [P].

王丹 ;

高文琳 ;

刘福超 .

中国专利 :CN118085731B ,2024-07-19

[5]

一种用于碳化硅晶圆抛光的高速率抛光液及其制备方法 [P].

陈杏辉 ;

杨红星 ;

萧桐 .

中国专利 :CN120248773A ,2025-07-04

[6]

一种碳化硅晶圆抛光用的抛光液及其制备方法与抛光方法 [P].

王丹 ;

高文琳 ;

刘福超 .

中国专利 :CN118085731A ,2024-05-28

[7]

一种碳化硅晶圆抛光用的球形纳米氧化铝抛光液 [P].

彭付贵 ;

谢喜明 ;

刘韦 ;

伍雅峰 .

中国专利 :CN119410272A ,2025-02-11

[8]

一种碳化硅晶圆抛光液及其制备方法 [P].

何波 ;

杨阳 ;

凌观爽 .

中国专利 :CN120399578A ,2025-08-01

[9]

一种碳化硅晶片的抛光液 [P].

詹琳 .

中国专利 :CN105647393A ,2016-06-08

[10]

一种碳化硅晶圆表面抛光方法 [P].

左晓磊 ;

王磊 ;

张康 ;

刘永进 ;

李婷 .

中国专利 :CN118123697A ,2024-06-04

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