一种半导体研磨抛光装置

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202421044201.7
申请日
2024-05-14
公开(公告)号
CN222244251U
公开(公告)日
2024-12-27
发明(设计)人
马珽 刘胜杰
申请人
洛阳润宝人造金刚石有限公司
申请人地址
471000 河南省洛阳市西工区工业园区纬三路五号
IPC主分类号
B24B37/00
IPC分类号
B24B37/27 B24B37/34 B24B55/12
代理机构
郑州图钉专利代理事务所(特殊普通合伙) 41164
代理人
石路
法律状态
授权
国省代码
黑龙江省 哈尔滨市
引用
下载
收藏
共 50 条
[1]
半导体研磨抛光装置 [P]. 
姚力军 ;
黄引驰 ;
姚佩佩 ;
蔡杨港 ;
黄文杰 ;
滕俊 ;
吴丹 .
中国专利 :CN119115804A ,2024-12-13
[2]
一种半导体研磨抛光机 [P]. 
伊观兰 .
中国专利 :CN211103256U ,2020-07-28
[3]
一种半导体材料研磨抛光设备 [P]. 
王刚 .
中国专利 :CN213561877U ,2021-06-29
[4]
一种半导体硅片研磨装置 [P]. 
李炜 ;
王看看 .
中国专利 :CN217194365U ,2022-08-16
[5]
一种半导体研磨抛光循环搅拌桶装置 [P]. 
杨柳 ;
张高杰 ;
李振飞 .
中国专利 :CN214923370U ,2021-11-30
[6]
一种半导体晶圆研磨抛光工具 [P]. 
郑勇 .
中国专利 :CN120134206A ,2025-06-13
[7]
一种半导体晶圆研磨抛光工具 [P]. 
郑勇 .
中国专利 :CN120134206B ,2025-10-14
[8]
一种半导体材料用研磨抛光装置 [P]. 
陈花贵 .
中国专利 :CN108214279A ,2018-06-29
[9]
一种半导体生产用硅片抛光装置 [P]. 
曹福斌 .
中国专利 :CN214956761U ,2021-11-30
[10]
一种半导体加工研磨装置 [P]. 
沈红星 ;
李北印 ;
陈泳宇 .
中国专利 :CN222449796U ,2025-02-11