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一种半导体研磨抛光装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202421044201.7
申请日
:
2024-05-14
公开(公告)号
:
CN222244251U
公开(公告)日
:
2024-12-27
发明(设计)人
:
马珽
刘胜杰
申请人
:
洛阳润宝人造金刚石有限公司
申请人地址
:
471000 河南省洛阳市西工区工业园区纬三路五号
IPC主分类号
:
B24B37/00
IPC分类号
:
B24B37/27
B24B37/34
B24B55/12
代理机构
:
郑州图钉专利代理事务所(特殊普通合伙) 41164
代理人
:
石路
法律状态
:
授权
国省代码
:
黑龙江省 哈尔滨市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-12-27
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体研磨抛光装置
[P].
姚力军
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
宁波阳明工业技术研究院有限公司
宁波阳明工业技术研究院有限公司
姚力军
;
黄引驰
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机构:
宁波阳明工业技术研究院有限公司
宁波阳明工业技术研究院有限公司
黄引驰
;
姚佩佩
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机构:
宁波阳明工业技术研究院有限公司
宁波阳明工业技术研究院有限公司
姚佩佩
;
蔡杨港
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机构:
宁波阳明工业技术研究院有限公司
宁波阳明工业技术研究院有限公司
蔡杨港
;
黄文杰
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机构:
宁波阳明工业技术研究院有限公司
宁波阳明工业技术研究院有限公司
黄文杰
;
滕俊
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机构:
宁波阳明工业技术研究院有限公司
宁波阳明工业技术研究院有限公司
滕俊
;
吴丹
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机构:
宁波阳明工业技术研究院有限公司
宁波阳明工业技术研究院有限公司
吴丹
.
中国专利
:CN119115804A
,2024-12-13
[2]
一种半导体研磨抛光机
[P].
伊观兰
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0
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0
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0
伊观兰
.
中国专利
:CN211103256U
,2020-07-28
[3]
一种半导体材料研磨抛光设备
[P].
王刚
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0
王刚
.
中国专利
:CN213561877U
,2021-06-29
[4]
一种半导体硅片研磨装置
[P].
李炜
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李炜
;
王看看
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王看看
.
中国专利
:CN217194365U
,2022-08-16
[5]
一种半导体研磨抛光循环搅拌桶装置
[P].
杨柳
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杨柳
;
张高杰
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张高杰
;
李振飞
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李振飞
.
中国专利
:CN214923370U
,2021-11-30
[6]
一种半导体晶圆研磨抛光工具
[P].
郑勇
论文数:
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机构:
名正(浙江)电子装备有限公司
名正(浙江)电子装备有限公司
郑勇
.
中国专利
:CN120134206A
,2025-06-13
[7]
一种半导体晶圆研磨抛光工具
[P].
郑勇
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0
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机构:
名正(浙江)电子装备有限公司
名正(浙江)电子装备有限公司
郑勇
.
中国专利
:CN120134206B
,2025-10-14
[8]
一种半导体材料用研磨抛光装置
[P].
陈花贵
论文数:
0
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陈花贵
.
中国专利
:CN108214279A
,2018-06-29
[9]
一种半导体生产用硅片抛光装置
[P].
曹福斌
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曹福斌
.
中国专利
:CN214956761U
,2021-11-30
[10]
一种半导体加工研磨装置
[P].
沈红星
论文数:
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机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
沈红星
;
李北印
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机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
李北印
;
陈泳宇
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0
机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
陈泳宇
.
中国专利
:CN222449796U
,2025-02-11
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