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聚焦离子束装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202180042279.8
申请日：
2021-06-29
公开(公告)号：
CN115699243B
公开(公告)日：
2024-12-17
发明(设计)人：
水村通伸
申请人：
株式会社V技术
申请人地址：
日本神奈川县
IPC主分类号：
H01J37/18
IPC分类号：
H01J37/20 H01J37/28 H01J37/317
代理机构：
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291
代理人：
黄志华;洪秀川
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-12-17 授权 授权
共 50 条
[1]
聚焦离子束装置 [P]. 
水村通伸 .
中国专利 :CN115699243A ,2023-02-03
[2]
聚焦离子束装置 [P]. 
水村通伸 .
中国专利 :CN115668433A ,2023-01-31
[3]
聚焦离子束装置 [P]. 
顾晓芳 ;
刘永波 ;
倪棋梁 ;
龙吟 ;
陈宏璘 .
中国专利 :CN102915900A ,2013-02-06
[4]
聚焦离子束装置 [P]. 
大西毅 ;
岩堀敏行 .
中国专利 :CN107204268B ,2017-09-26
[5]
聚焦离子束装置 [P]. 
作田训将 ;
福田知久 ;
水野议觉 .
日本专利 :CN120376390A ,2025-07-25
[6]
聚焦离子束装置 [P]. 
水野议觉 ;
繁山航 ;
青岛慎 .
日本专利 :CN119725055A ,2025-03-28
[7]
液体金属离子源和聚焦离子束装置 [P]. 
小山喜弘 ;
麻畑达也 ;
清原正宽 ;
杨宗翰 .
中国专利 :CN112635276A ,2021-04-09
[8]
液体金属离子源和聚焦离子束装置 [P]. 
小山喜弘 ;
麻畑达也 ;
清原正宽 ;
杨宗翰 .
日本专利 :CN112635276B ,2025-04-25
[9]
聚焦离子束装置和调整离子束光学系统的方法 [P]. 
杉山安彦 ;
麻畑达也 ;
土井利夫 ;
大庭弘 .
中国专利 :CN103311080A ,2013-09-18
[10]
一种样品台和聚焦离子束装置 [P]. 
陈笔宇 ;
李绍建 ;
龚子雄 .
中国专利 :CN223436485U ,2025-10-14
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