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液体金属离子源和聚焦离子束装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010660895.7
申请日：
2020-07-10
公开(公告)号：
CN112635276B
公开(公告)日：
2025-04-25
发明(设计)人：
小山喜弘
麻畑达也
清原正宽
杨宗翰
申请人：
日本株式会社日立高新技术科学
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01J37/08
IPC分类号：
H01J37/30
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
褚瑶杨;庞东成
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-04-25 | 授权 | 授权 |
| 2025-07-22 | 专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更 | 专利权人的姓名或者名称、国籍和地址的变更IPC(主分类):H01J 37/08变更事项:专利权人变更前:日本株式会社日立高新技术科学变更后:株式会社日立高新技术分析变更事项:国家或地区变更前:日本变更后:日本变更事项:地址变更前:日本东京都变更后:日本东京都 |