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离子束镀膜聚焦离子源
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920031293.8
申请日
:
2019-01-09
公开(公告)号
:
CN209312712U
公开(公告)日
:
2019-08-27
发明(设计)人
:
不公告发明人
申请人
:
申请人地址
:
102101 北京市延庆区康庄镇八达岭开发区风谷四路8号院26号楼东
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
C23C1422
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-12-17
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20190109 授权公告日:20190827 终止日期:20210109
2019-08-27
授权
授权
共 50 条
[1]
一种离子束镀膜聚焦离子源
[P].
安建昊
论文数:
0
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0
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0
安建昊
;
唐欢欢
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唐欢欢
.
中国专利
:CN211125568U
,2020-07-28
[2]
一种离子束镀膜设备
[P].
陈卫军
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机构:
苏州辰华半导体技术有限公司
苏州辰华半导体技术有限公司
陈卫军
;
欧阳增图
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机构:
苏州辰华半导体技术有限公司
苏州辰华半导体技术有限公司
欧阳增图
;
刘凌海
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机构:
苏州辰华半导体技术有限公司
苏州辰华半导体技术有限公司
刘凌海
.
中国专利
:CN221971656U
,2024-11-08
[3]
一种离子束镀膜装置
[P].
闫志强
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闫志强
.
中国专利
:CN214496464U
,2021-10-26
[4]
一种聚焦离子束显微镜离子源
[P].
朱进军
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朱进军
.
中国专利
:CN113205988A
,2021-08-03
[5]
离子源的离子束引出系统
[P].
冯毓材
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冯毓材
.
中国专利
:CN201256138Y
,2009-06-10
[6]
一种聚焦离子束显微镜离子源
[P].
朱进军
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朱进军
.
中国专利
:CN215008134U
,2021-12-03
[7]
离子源系统和离子束流系统
[P].
洪俊华
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洪俊华
;
陈炯
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陈炯
.
中国专利
:CN104299871B
,2015-01-21
[8]
聚焦离子束设备及聚焦离子束检测方法
[P].
赖李龙
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赖李龙
.
中国专利
:CN101246132B
,2008-08-20
[9]
一种离子束镀膜设备及其镀膜方法
[P].
范江华
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范江华
;
佘鹏程
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佘鹏程
;
周立平
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周立平
;
巴塞
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巴塞
;
袁祖浩
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袁祖浩
;
程文进
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程文进
.
中国专利
:CN112899633B
,2021-06-04
[10]
液体金属离子源和聚焦离子束装置
[P].
小山喜弘
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小山喜弘
;
麻畑达也
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麻畑达也
;
清原正宽
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清原正宽
;
杨宗翰
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杨宗翰
.
中国专利
:CN112635276A
,2021-04-09
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