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液体金属离子源和聚焦离子束装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010660895.7
申请日
:
2020-07-10
公开(公告)号
:
CN112635276A
公开(公告)日
:
2021-04-09
发明(设计)人
:
小山喜弘
麻畑达也
清原正宽
杨宗翰
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3708
IPC分类号
:
H01J3730
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
褚瑶杨;庞东成
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-04-09
公开
公开
2022-06-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/08 申请日:20200710
共 50 条
[1]
液体金属离子源和聚焦离子束装置
[P].
小山喜弘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
小山喜弘
;
麻畑达也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
麻畑达也
;
清原正宽
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
清原正宽
;
杨宗翰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本株式会社日立高新技术科学
日本株式会社日立高新技术科学
杨宗翰
.
日本专利
:CN112635276B
,2025-04-25
[2]
聚焦离子束装置
[P].
大西毅
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大西毅
;
岩堀敏行
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
岩堀敏行
.
中国专利
:CN107204268B
,2017-09-26
[3]
聚焦离子束装置
[P].
作田训将
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
作田训将
;
福田知久
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
福田知久
;
水野议觉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
水野议觉
.
日本专利
:CN120376390A
,2025-07-25
[4]
聚焦离子束装置
[P].
水村通伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
水村通伸
.
中国专利
:CN115699243A
,2023-02-03
[5]
聚焦离子束装置
[P].
水村通伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
水村通伸
.
中国专利
:CN115668433A
,2023-01-31
[6]
聚焦离子束装置
[P].
水野议觉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
水野议觉
;
繁山航
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
繁山航
;
青岛慎
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
日本电子株式会社
日本电子株式会社
青岛慎
.
日本专利
:CN119725055A
,2025-03-28
[7]
聚焦离子束装置
[P].
顾晓芳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
顾晓芳
;
刘永波
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘永波
;
倪棋梁
论文数:
0
引用数:
0
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0
倪棋梁
;
龙吟
论文数:
0
引用数:
0
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0
龙吟
;
陈宏璘
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈宏璘
.
中国专利
:CN102915900A
,2013-02-06
[8]
聚焦离子束装置
[P].
水村通伸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社V技术
株式会社V技术
水村通伸
.
日本专利
:CN115699243B
,2024-12-17
[9]
离子束镀膜聚焦离子源
[P].
不公告发明人
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
不公告发明人
.
中国专利
:CN209312712U
,2019-08-27
[10]
离子源系统和离子束流系统
[P].
洪俊华
论文数:
0
引用数:
0
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0
洪俊华
;
陈炯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
陈炯
.
中国专利
:CN104299871B
,2015-01-21
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