基板保持装置及びそれを備えた基板処理装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20230011055

申请日：

2023-01-27

公开(公告)号：

JP7611949B2

公开(公告)日：

2025-01-10

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/683

IPC分类号：

B08B1/36 B24B41/04 H01L21/304 H01L21/677

代理机构：

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法律状态信息

共 50 条

[1]

基板保持装置並びに基板保持装置を備えた基板処理装置および基板処理方法[ja] [P].

日本专利 :JP6974116B2 ,2021-12-01

[2]

基板保持装置および基板保持装置を備える基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6946151B2 ,2021-10-06

[3]

基板保持装置およびこれを備える基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6562507B2 ,2019-08-21

[4]

回転保持装置およびそれを備える基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7702260B2 ,2025-07-03

[5]

基板処理装置、基板保持装置及び基板保持方法[ja] [P].

KUNUGI YUJI ;

SASAKI YOSHIHIKO ;

SAITO HITOSHI .

日本专利 :JP2024014680A ,2024-02-01

[6]

基板保持装置及び基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7383147B2 ,2023-11-17

[7]

基板保持装置、及び基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP7564586B1 ,2024-10-09

[8]

基板保持装置および該基板保持装置を備えた研磨装置[ja] [P].

日本专利 :JP5903034B2 ,2016-04-13

[9]

基板保持方法、基板保持装置、処理方法及び処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6568781B2 ,2019-08-28

[10]

基板保持装置、基板処理装置[ja] [P].

日本专利 :JP6007004B2 ,2016-10-12

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