改善发光强度的发光二极管及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411293313.0
申请日
2024-09-14
公开(公告)号
CN119403317A
公开(公告)日
2025-02-07
发明(设计)人
姚振 从颖 张毓 蔡和勋
申请人
京东方华灿光电(苏州)有限公司
申请人地址
215600 江苏省苏州市张家港市经济开发区晨丰公路28号
IPC主分类号
H10H20/816
IPC分类号
H10H20/01
代理机构
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138
代理人
吕耀萍
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
发光二极管及其制备方法 [P]. 
姚振 ;
从颖 ;
张毓 ;
蔡和勋 .
中国专利 :CN120076511B ,2025-12-05
[2]
发光二极管及其制备方法 [P]. 
姚振 ;
从颖 ;
张毓 ;
蔡和勋 .
中国专利 :CN120076511A ,2025-05-30
[3]
改善发光效率的发光二极管及其制备方法 [P]. 
王明 ;
陆香花 ;
张奕 .
中国专利 :CN119108472B ,2025-10-03
[4]
改善发光效率的发光二极管及其制备方法 [P]. 
肖云飞 ;
贾胜敏 ;
陆香花 ;
梅劲 .
中国专利 :CN115763645B ,2025-05-06
[5]
改善发光效率的发光二极管及其制备方法 [P]. 
王明 ;
陆香花 ;
张奕 .
中国专利 :CN119108472A ,2024-12-10
[6]
改善发光效率的发光二极管及其制备方法 [P]. 
张威 ;
吴志浩 ;
王江波 .
中国专利 :CN115602772A ,2023-01-13
[7]
改善发光效果的发光二极管及其制备方法 [P]. 
韩艺蕃 ;
郝亚磊 ;
魏柏林 ;
石跃航 ;
王绘凝 ;
王江波 .
中国专利 :CN117747729A ,2024-03-22
[8]
改善发光效率的发光二极管及其制备方法 [P]. 
洪威威 ;
陆香花 ;
尚玉平 ;
梅劲 .
中国专利 :CN118448534A ,2024-08-06
[9]
改善发光均匀性的发光二极管及其制备方法 [P]. 
芮哲 ;
高艳龙 ;
秦双娇 ;
尹灵峰 .
中国专利 :CN115440864A ,2022-12-06
[10]
改善发光均匀性的发光二极管及其制备方法 [P]. 
兰叶 ;
王江波 ;
朱广敏 ;
吴志浩 ;
张威 .
中国专利 :CN119486403A ,2025-02-18