抛光浆料和抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311052019.6

申请日：

2023-08-18

公开(公告)号：

CN119490793A

公开(公告)日：

2025-02-21

发明(设计)人：

张力飞谢顺帆曹均助顾忠华刘洪涛王同庆路新春

申请人：

华为技术有限公司清华大学

申请人地址：

518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼

IPC主分类号：

C09G1/02

IPC分类号：

H01L21/321

代理机构：

北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人：

冯艳莲

法律状态：

公开

国省代码：

广东省深圳市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-02-21	公开	公开
2025-06-13	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20230818

共 50 条

[1]

钨抛光浆料和抛光衬底的方法 [P].

朴珍亨 .

中国专利 :CN106883766B ,2017-06-23

[2]

抛光浆料和通过使用抛光浆料抛光基板的方法 [P].

赵玹辰 ;

裵俊和 ;

秋秉权 ;

曹雨辰 ;

朴珍亨 .

中国专利 :CN110317538A ,2019-10-11

[3]

抛光浆料以及使用所述抛光浆料的衬底抛光方法 [P].

郑胜元 .

中国专利 :CN104746080A ,2015-07-01

[4]

抛光浆料 [P].

L·刘 ;

D·克沃克 .

中国专利 :CN1200984C ,2002-01-30

[5]

抛光浆料及其制备方法和基板的抛光方法 [P].

金大亨 ;

洪锡敏 ;

全宰贤 ;

金晧性 ;

朴炫洙 ;

白雲揆 ;

朴在勤 ;

金容国 .

中国专利 :CN1944496B ,2007-04-11

[6]

抛光浆料及其制备方法和抛光基板的方法 [P].

金大亨 ;

洪锡敏 ;

全宰贤 ;

白云揆 ;

朴在勤 ;

金容国 .

中国专利 :CN101092543B ,2007-12-26

[7]

抛光浆料及其制备方法和基板的抛光方法 [P].

金大亨 ;

洪锡敏 ;

全宰贤 ;

金晧性 ;

朴炫洙 ;

白雲揆 ;

朴在勤 ;

金容国 .

中国专利 :CN1667026A ,2005-09-14

[8]

抛光浆料及其制备方法和抛光基板的方法 [P].

金大亨 ;

洪锡敏 ;

全宰贤 ;

白云揆 ;

朴在勤 ;

金容国 .

中国专利 :CN1737071A ,2006-02-22

[9]

铈基抛光料和铈基抛光浆料 [P].

别所直纪 .

中国专利 :CN1289626C ,2004-08-11

[10]

抛光浆料 [P].

金大亨 ;

洪锡敏 ;

金容国 ;

金东炫 ;

徐明源 ;

朴在勤 ;

白云揆 .

中国专利 :CN1818002B ,2006-08-16

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