宽带隙半导体装置

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专利类型
发明
申请号
CN202411090032.5
申请日
2024-08-09
公开(公告)号
CN119521727A
公开(公告)日
2025-02-25
发明(设计)人
F·雷辛格 M·赫尔 T·艾兴格 A·米哈伊洛夫
申请人
英飞凌科技股份有限公司
申请人地址
德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-15号
IPC主分类号
H10D30/66
IPC分类号
H10D30/01 H10D12/01 H10D12/00
代理机构
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
申屠伟进;陈晓
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
宽带隙半导体装置 [P]. 
中村俊一 .
日本专利 :CN111295764B ,2024-03-01
[2]
宽带隙半导体装置 [P]. 
中村俊一 .
中国专利 :CN111295764A ,2020-06-16
[3]
宽带隙半导体装置 [P]. 
中村俊一 .
中国专利 :CN111742412A ,2020-10-02
[4]
宽带隙半导体装置 [P]. 
中村俊一 .
中国专利 :CN111295763A ,2020-06-16
[5]
宽带隙半导体装置 [P]. 
末川英介 ;
鹿口直斗 ;
池上雅明 .
中国专利 :CN104282686A ,2015-01-14
[6]
宽带隙半导体装置 [P]. 
中村俊一 .
中国专利 :CN111373546A ,2020-07-03
[7]
宽带隙半导体装置 [P]. 
中村俊一 .
日本专利 :CN111406323B ,2024-03-01
[8]
宽带隙半导体装置 [P]. 
中村俊一 .
中国专利 :CN111406323A ,2020-07-10
[9]
宽带隙半导体装置及宽带隙半导体装置的制造方法 [P]. 
前山雄介 ;
中村俊一 ;
大贯仁 .
中国专利 :CN114946037A ,2022-08-26
[10]
宽带隙半导体装置以及宽带隙半导体装置的制造方法 [P]. 
前山雄介 ;
中村俊一 ;
小笠原淳 ;
大泽良平 ;
涉川昭彦 .
中国专利 :CN107078167A ,2017-08-18