一种PVT法SiC单晶生长炉真空压力控制系统

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202421478946.4
申请日
2024-06-26
公开(公告)号
CN222666103U
公开(公告)日
2025-03-25
发明(设计)人
朱彦林
申请人
重庆原石智能装备有限公司
申请人地址
401133 重庆市江北区两江新区鱼嘴镇永和路39号10层1021
IPC主分类号
C30B29/36
IPC分类号
C30B23/00
代理机构
重庆博凯知识产权代理有限公司 50212
代理人
万霞
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种PVT法单晶生长炉 [P]. 
周振翔 ;
赵欣 ;
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[2]
碳化硅单晶生长炉的压力控制系统 [P]. 
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[3]
一种碳化硅单晶生长炉中的提纯及压力控制系统 [P]. 
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王香泉 ;
孟大磊 ;
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[4]
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[5]
一种PVT法SiC单晶生长坩埚 [P]. 
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[6]
一种PVT法SiC单晶生长坩埚 [P]. 
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[7]
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[8]
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[9]
一种SiC单晶PVT生长装置 [P]. 
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牛晓龙 ;
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[10]
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周正星 ;
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