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硅片抛光方法及装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411809080.5
申请日
:
2024-12-10
公开(公告)号
:
CN119658580A
公开(公告)日
:
2025-03-21
发明(设计)人
:
马驰
申请人
:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址
:
710000 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室
IPC主分类号
:
B24B37/08
IPC分类号
:
H01L21/306
B24B37/34
B24B1/00
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
张博
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-08
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/08申请日:20241210
2025-03-21
公开
公开
共 50 条
[1]
一种硅片抛光方法及装置
[P].
陈波
论文数:
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0
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陈波
;
夏洋
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夏洋
;
李楠
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0
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李楠
.
中国专利
:CN107154351B
,2017-09-12
[2]
硅片抛光设备
[P].
郭鹏
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0
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0
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0
机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
郭鹏
.
中国专利
:CN221871594U
,2024-10-22
[3]
一种硅片背面抛光用装置及抛光方法
[P].
洪育维
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洪育维
;
吴泓明
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吴泓明
;
黄郁璇
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黄郁璇
;
钟佑生
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钟佑生
.
中国专利
:CN108789163A
,2018-11-13
[4]
一种硅片抛光装置
[P].
陈波
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陈波
;
夏洋
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夏洋
;
李楠
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0
李楠
.
中国专利
:CN107154366A
,2017-09-12
[5]
硅片抛光装置和硅片抛光方法
[P].
丁建行
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
丁建行
.
中国专利
:CN117532427A
,2024-02-09
[6]
硅片切割方法及硅片切割装置
[P].
李昊
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
李昊
;
刘永亮
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
刘永亮
;
胡斌
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
胡斌
.
中国专利
:CN119283214A
,2025-01-10
[7]
一种硅片抛光设备、方法及装置
[P].
靳凌翔
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0
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
靳凌翔
.
中国专利
:CN118544213A
,2024-08-27
[8]
一种硅片抛光装置及采用该装置的抛光方法
[P].
刘宜森
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刘宜森
;
张硕东
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张硕东
;
张江涛
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张江涛
;
许普增
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许普增
;
曹会倩
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曹会倩
;
王帅
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王帅
;
谭永麟
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谭永麟
;
孙晨光
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孙晨光
;
王彦君
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王彦君
.
中国专利
:CN115415912A
,2022-12-02
[9]
一种支持硅片尺寸切换的抛光控制方法、设备及硅片
[P].
何加华
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机构:
上海中欣晶圆半导体科技有限公司
上海中欣晶圆半导体科技有限公司
何加华
;
梅晓进
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机构:
上海中欣晶圆半导体科技有限公司
上海中欣晶圆半导体科技有限公司
梅晓进
.
中国专利
:CN119188430A
,2024-12-27
[10]
硅片抛光方法和硅片抛光设备
[P].
靳凌翔
论文数:
0
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0
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
靳凌翔
.
中国专利
:CN119526238B
,2025-11-28
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