掩膜排版方法、装置、设备、介质及产品

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411885210.3

申请日：

2024-12-19

公开(公告)号：

CN119830843A

公开(公告)日：

2025-04-15

发明(设计)人：

刘云涛甘远

申请人：

东方晶源微电子科技（北京）股份有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海四路156号院12号楼

IPC主分类号：

G06F30/392

IPC分类号：

G06F30/398

代理机构：

北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258

代理人：

赵秀芹

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-02	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G06F 30/392申请日:20241219
2025-04-15	公开	公开

共 50 条

[1]

掩膜处理方法、装置、设备、介质及产品 [P].

黄果 ;

丁明 .

中国专利 :CN119762504A ,2025-04-04

[2]

一种掩膜优化方法及存储介质 [P].

鲁李乐 .

中国专利 :CN117555202A ,2024-02-13

[3]

SEM图像的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P].

请求不公布姓名 ;

刘成成 ;

韩春营 .

中国专利 :CN119888323A ,2025-04-25

[4]

机台控制方法、装置、电子设备、介质及产品 [P].

王迪 ;

张洪彪 ;

李宏飞 ;

王庆涛 ;

席阳 ;

史晋峰 ;

韩春营 .

中国专利 :CN120388906A ,2025-07-29

[5]

图像缺陷分类方法、设备、介质及产品 [P].

包达文 ;

田亦农 ;

鄢昌莲 .

中国专利 :CN120219292A ,2025-06-27

[6]

图像匹配方法、设备、介质及产品 [P].

黄旭 ;

刘成成 ;

韩春营 .

中国专利 :CN120298725A ,2025-07-11

[7]

辅助图形的生成方法、装置、设备、介质及产品 [P].

徐曾徐 .

中国专利 :CN120178592A ,2025-06-20

[8]

掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P].

马柯 ;

丁明 ;

李柏珍 .

中国专利 :CN120335227A ,2025-07-18

[9]

掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P].

周桌霖 .

中国专利 :CN119882344A ,2025-04-25

[10]

掩模版图的处理方法、装置、设备、介质及产品 [P].

周桌霖 .

中国专利 :CN119882344B ,2025-10-17

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