处理液、基板的处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202180051654.5

申请日：

2021-08-18

公开(公告)号：

CN115989314B

公开(公告)日：

2025-04-15

发明(设计)人：

高桥智威杉岛泰雄水谷笃史

申请人：

富士胶片株式会社

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

H01L21/304

IPC分类号：

H01L21/306 H01L21/027 C11D7/50 C11D7/38 C11D7/36 C11D7/34 C11D7/32 C11D7/28 C11D7/26 C11D7/22 C11D7/18 C11D7/16 C11D7/10 C11D7/08 C11D7/06 C11D3/43 C11D3/39 C11D3/37 C11D3/36 C11D3/34 C11D3/30 C11D3/28 C11D3/26 C11D3/20 C11D3/06 C11D3/04 C11D1/34 C11D1/29 C11D1/12 C11D1/06 C11D1/04 C23F1/14 C11D17/08

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

薛海蛟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-15	授权	授权

共 50 条

[1]

处理液、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

杉岛泰雄 ;

水谷笃史 .

日本专利 :CN120311189A ,2025-07-15

[2]

处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

清水哲也 ;

水谷笃史 ;

杉岛泰雄 .

日本专利 :CN118931672A ,2024-11-12

[3]

处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

清水哲也 ;

水谷笃史 ;

杉岛泰雄 .

中国专利 :CN114364780A ,2022-04-15

[4]

处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

清水哲也 ;

水谷笃史 ;

杉岛泰雄 .

日本专利 :CN118931673A ,2024-11-12

[5]

处理液、试剂盒、基板的清洗方法 [P].

高桥智威 ;

上村哲也 .

中国专利 :CN111033697A ,2020-04-17

[6]

处理液供给装置及方法、处理液及基板处理装置及方法 [P].

宫城雅宏 ;

荒木浩之 ;

铃木政典 ;

佐藤朋且 ;

川濑信雄 .

中国专利 :CN104662644A ,2015-05-27

[7]

基板处理装置、基板处理方法以及基板处理程序 [P].

鬼塚智也 ;

川上真一路 ;

源岛久志 .

日本专利 :CN117434801A ,2024-01-23

[8]

基板处理系统、基板处理装置以及基板处理方法 [P].

高木慎介 ;

只友浩贵 ;

酒田洋司 ;

鬼塚智也 ;

柴田直树 .

日本专利 :CN118818893A ,2024-10-22

[9]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

吉田幸史 ;

上田大 .

中国专利 :CN111326456A ,2020-06-23

[10]

基板处理方法以及基板处理装置 [P].

吉田幸史 ;

上田大 .

日本专利 :CN120149157A ,2025-06-13

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