学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审

处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202411009157.0
申请日：
2020-08-04
公开(公告)号：
CN118931673A
公开(公告)日：
2024-11-12
发明(设计)人：
高桥智威 清水哲也 水谷笃史 杉岛泰雄
申请人：
富士胶片株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
C11D7/08
IPC分类号：
C11D7/10 C11D7/26 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/60 B08B3/08
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
薛海蛟
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-11-12 公开 公开
2024-11-29 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):C11D 7/08申请日:20200804
共 50 条
[1]
处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 [P]. 
高桥智威 ;
清水哲也 ;
水谷笃史 ;
杉岛泰雄 .
中国专利 :CN114364780A ,2022-04-15
[2]
处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 [P]. 
高桥智威 ;
清水哲也 ;
水谷笃史 ;
杉岛泰雄 .
日本专利 :CN118931672A ,2024-11-12
[3]
处理液、试剂盒、基板的清洗方法 [P]. 
高桥智威 ;
上村哲也 .
中国专利 :CN111033697A ,2020-04-17
[4]
处理液、基板的处理方法 [P]. 
高桥智威 ;
杉岛泰雄 ;
水谷笃史 .
日本专利 :CN115989314B ,2025-04-15
[5]
处理液、基板的处理方法 [P]. 
高桥智威 ;
杉岛泰雄 ;
水谷笃史 .
日本专利 :CN120311189A ,2025-07-15
[6]
基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置 [P]. 
张健 ;
天野嘉文 ;
冈本英一郎 ;
伊藤优树 .
中国专利 :CN105845603B ,2016-08-10
[7]
基板液处理装置和基板液处理方法 [P]. 
小原隆宪 .
日本专利 :CN117461118A ,2024-01-26
[8]
基板液处理装置以及基板液处理方法 [P]. 
佐藤秀明 .
中国专利 :CN105983549B ,2016-10-05
[9]
基板液处理装置及基板液处理方法 [P]. 
赵允仙 ;
金瀚沃 ;
鲁圣德 ;
金康元 .
中国专利 :CN105390418B ,2018-11-13
[10]
基板液处理装置及基板液处理方法 [P]. 
赵允仙 ;
金瀚沃 .
中国专利 :CN107078083B ,2017-08-18
12345