处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411009130.1

申请日：

2020-08-04

公开(公告)号：

CN118931672A

公开(公告)日：

2024-11-12

发明(设计)人：

高桥智威清水哲也水谷笃史杉岛泰雄

申请人：

富士胶片株式会社

申请人地址：

日本

IPC主分类号：

C11D7/08

IPC分类号：

C11D7/10 C11D7/26 C11D7/32 C11D7/34 C11D7/60 B08B3/08

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

薛海蛟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-12	公开	公开
2024-11-29	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C11D 7/08申请日:20200804

共 50 条

[1]

处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

清水哲也 ;

水谷笃史 ;

杉岛泰雄 .

中国专利 :CN114364780A ,2022-04-15

[2]

处理液、试剂盒、处理液的制造方法、基板的清洗方法、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

清水哲也 ;

水谷笃史 ;

杉岛泰雄 .

日本专利 :CN118931673A ,2024-11-12

[3]

处理液、试剂盒、基板的清洗方法 [P].

高桥智威 ;

上村哲也 .

中国专利 :CN111033697A ,2020-04-17

[4]

处理液、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

杉岛泰雄 ;

水谷笃史 .

日本专利 :CN115989314B ,2025-04-15

[5]

处理液、基板的处理方法 [P].

高桥智威 ;

杉岛泰雄 ;

水谷笃史 .

日本专利 :CN120311189A ,2025-07-15

[6]

基板液处理装置、基板液处理方法以及基板处理装置 [P].

张健 ;

天野嘉文 ;

冈本英一郎 ;

伊藤优树 .

中国专利 :CN105845603B ,2016-08-10

[7]

基板液处理装置和基板液处理方法 [P].

小原隆宪 .

日本专利 :CN117461118A ,2024-01-26

[8]

基板液处理装置以及基板液处理方法 [P].

佐藤秀明 .

中国专利 :CN105983549B ,2016-10-05

[9]

基板液处理装置及基板液处理方法 [P].

赵允仙 ;

金瀚沃 ;

鲁圣德 ;

金康元 .

中国专利 :CN105390418B ,2018-11-13

[10]

基板液处理装置及基板液处理方法 [P].

赵允仙 ;

金瀚沃 .

中国专利 :CN107078083B ,2017-08-18

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