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气体喷淋头、制作方法及包括气体喷淋头的等离子体装置

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910269600.0
申请日：
2019-04-04
公开(公告)号：
CN111785604B
公开(公告)日：
2025-04-08
发明(设计)人：
倪图强 徐朝阳 江家玮
申请人：
中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请人地址：
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号
IPC主分类号：
H01J37/32
IPC分类号：
H01L21/67
代理机构：
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人：
徐雯琼;张静洁
法律状态：
授权
国省代码：
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-08 授权 授权
共 50 条
[1]
气体喷淋头、制作方法及包括气体喷淋头的等离子体装置 [P]. 
倪图强 ;
徐朝阳 ;
江家玮 .
中国专利 :CN111785604A ,2020-10-16
[2]
气体喷淋头及包括该气体喷淋头的等离子体装置 [P]. 
倪图强 ;
徐朝阳 ;
江家玮 .
中国专利 :CN209471923U ,2019-10-08
[3]
气体喷淋头及等离子体处理装置 [P]. 
叶如彬 ;
吴昊 .
中国专利 :CN215815786U ,2022-02-11
[4]
气体喷淋头以及等离子体处理装置 [P]. 
欧阳亮 .
中国专利 :CN215481251U ,2022-01-11
[5]
气体喷淋头及等离子体处理装置 [P]. 
朱生华 ;
杜若昕 ;
丛海 .
中国专利 :CN222953022U ,2025-06-06
[6]
气体喷淋头及等离子体处理装置 [P]. 
孔轩 ;
段蛟 ;
卢辰雨 ;
王孝 ;
钱俊 .
中国专利 :CN121034933A ,2025-11-28
[7]
等离子体处理装置和气体喷淋头 [P]. 
佐佐木芳彦 ;
町山弥 ;
南雅人 .
中国专利 :CN108987234B ,2018-12-11
[8]
气体喷淋头组件及等离子体处理装置 [P]. 
李晓磊 ;
张昭 ;
张凯 ;
李浩楠 ;
张富荣 .
中国专利 :CN223660210U ,2025-12-12
[9]
气体喷淋头组件及等离子体处理装置 [P]. 
李晓磊 ;
张昭 ;
张凯 ;
李浩楠 ;
张富荣 .
中国专利 :CN119859795A ,2025-04-22
[10]
气体喷淋头组件及等离子体处理设备 [P]. 
郭盛 ;
陈星建 ;
倪图强 .
中国专利 :CN112713074A ,2021-04-27
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