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电极板、电极组件和等离子体处理装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380062338.7
申请日
:
2023-08-31
公开(公告)号
:
CN119790716A
公开(公告)日
:
2025-04-08
发明(设计)人
:
有吉文彬
花冈秀敏
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
H05H1/46
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;徐飞跃
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-04-25
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H05H 1/46申请日:20230831
2025-04-08
公开
公开
共 50 条
[1]
电极组件和等离子体处理装置
[P].
高桥千香子
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高桥千香子
;
铃木隆司
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铃木隆司
;
堀口将人
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堀口将人
.
中国专利
:CN100525577C
,2007-03-14
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理装置用的电极板和电极板制造方法
[P].
奥村胜弥
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奥村胜弥
;
桧森慎司
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桧森慎司
;
永关一也
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永关一也
;
松丸弘树
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松丸弘树
;
松山升一郎
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松山升一郎
;
高桥俊树
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高桥俊树
.
中国专利
:CN1745463A
,2006-03-08
[3]
等离子体处理装置用电极板及等离子体处理装置用电极板的再生方法
[P].
野村聪
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野村聪
;
藤森周司
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藤森周司
.
中国专利
:CN110291225B
,2019-09-27
[4]
等离子体处理装置和方法以及等离子体处理装置的电极板
[P].
兴石公
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兴石公
;
广瀬润
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广瀬润
;
小笠原正宏
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小笠原正宏
;
平野太一
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平野太一
;
佐佐木宽充
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佐佐木宽充
;
吉田哲雄
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吉田哲雄
;
斋藤道茂
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斋藤道茂
;
石原博之
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石原博之
;
大薮淳
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大薮淳
;
沼田幸治
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沼田幸治
.
中国专利
:CN1717789A
,2006-01-04
[5]
上部电极和等离子体处理装置
[P].
松山昇一郎
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松山昇一郎
.
中国专利
:CN102647846A
,2012-08-22
[6]
等离子体处理装置和下电极组件
[P].
倪图强
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倪图强
;
郭盛
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郭盛
;
孙祥
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孙祥
;
范光伟
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范光伟
;
杨宽
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杨宽
;
王洪青
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王洪青
;
陈星建
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陈星建
;
杜若昕
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杜若昕
.
中国专利
:CN214477329U
,2021-10-22
[7]
下电极组件和等离子体处理装置
[P].
吴磊
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吴磊
;
叶如彬
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叶如彬
.
中国专利
:CN214672493U
,2021-11-09
[8]
下电极组件和等离子体处理装置
[P].
吴磊
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吴磊
;
叶如彬
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叶如彬
.
中国专利
:CN114914142A
,2022-08-16
[9]
下电极组件和等离子体处理装置
[P].
裴江涛
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裴江涛
;
连增迪
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连增迪
;
左涛涛
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左涛涛
;
吴狄
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吴狄
.
中国专利
:CN213150716U
,2021-05-07
[10]
下电极组件和等离子体处理装置
[P].
吴磊
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
吴磊
;
叶如彬
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
叶如彬
.
中国专利
:CN114914142B
,2025-02-14
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