微纳结构基板及其制备方法、微纳结构器件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311422177.6

申请日：

2023-10-30

公开(公告)号：

CN119912173A

公开(公告)日：

2025-05-02

发明(设计)人：

高厚乾张雅琦

申请人：

北京京东方技术开发有限公司京东方科技集团股份有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区北京经济技术开发区地泽路9号1幢407室

IPC主分类号：

C03C17/245

IPC分类号：

C03C17/22 C03C17/34 C03C17/36 G03F7/00 B82Y40/00

代理机构：

北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319

代理人：

张翠蓬

法律状态：

公开

国省代码：

北京市市辖区

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-02	公开	公开
2025-05-20	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C03C 17/245申请日:20231030

共 50 条

[1]

微纳结构闪烁体及其制备方法 [P].

王采林 ;

张轼 ;

姚露 ;

周洵声 ;

桂婉婷 ;

陈龙飞 .

中国专利 :CN117784203A ,2024-03-29

[2]

一种微纳结构的制备方法 [P].

蒋晓龙 ;

廖威 ;

栾晓雨 ;

张传超 ;

王海军 ;

蒋晓东 ;

倪卫 ;

王成程 .

中国专利 :CN118145592A ,2024-06-07

[3]

一种微纳结构及其制备方法 [P].

马原 ;

汪家道 ;

余郭煦 ;

李轩 .

中国专利 :CN115072656A ,2022-09-20

[4]

一种超疏水微纳结构制备方法 [P].

王振 ;

曹皓 ;

王力巧 ;

王增辉 ;

赵章林 ;

邵宜健 .

中国专利 :CN117991583A ,2024-05-07

[5]

一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法 [P].

陈宜方 ;

张思超 ;

邵金海 ;

陆冰睿 .

中国专利 :CN104934303B ,2015-09-23

[6]

微纳间隙测量方法 [P].

罗先刚 ;

张一娇 ;

刘明刚 ;

孙云卿 ;

李成文利 ;

武智朋 .

中国专利 :CN120141328A ,2025-06-13

[7]

微纳加工方法 [P].

陈继兵 ;

严仁闯 ;

吴艳 ;

宛农 .

中国专利 :CN110253134A ,2019-09-20

[8]

大高宽比同步辐射X射线衍射型微纳光学器件及其制备方法 [P].

陈秋成 ;

陈宜方 .

中国专利 :CN120727332A ,2025-09-30

[9]

一种宽带宽角度抗反射复合微纳结构表面及其制备方法 [P].

欧阳名钊 ;

张自强 ;

付跃刚 ;

任航 ;

张凯 ;

刘智颖 ;

张磊 ;

胡源 ;

王加科 .

中国专利 :CN113740940A ,2021-12-03

[10]

SOI衬底上制作半导体微纳结构器件的方法 [P].

郝智彪 ;

钮浪 ;

胡健楠 ;

汪莱 ;

罗毅 .

中国专利 :CN103803482B ,2014-05-21

← 1 2 3 4 5 →