一种等离子体工艺方法及等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311413250.3

申请日：

2023-10-27

公开(公告)号：

CN119905396A

公开(公告)日：

2025-04-29

发明(设计)人：

张一川徐伟娜张凯吴紫阳侯剑秋顾继强

申请人：

中微半导体设备（上海）股份有限公司

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

H01L21/3065

IPC分类号：

H01L21/67 H01J37/32

代理机构：

上海元好知识产权代理有限公司 31323

代理人：

徐雯琼;张静洁

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市市辖区

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-05-16	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/3065申请日:20231027
2025-04-29	公开	公开

共 50 条

[1]

一种等离子体工艺方法及等离子体处理设备 [P].

徐伟娜 ;

张一川 ;

张凯 ;

吴紫阳 ;

侯剑秋 .

中国专利 :CN119905397A ,2025-04-29

[2]

等离子体产生设备及等离子体处理设备 [P].

尤里·N·托尔马切夫 ;

马东俊 ;

金大一 ;

瑟吉·Y·纳瓦拉 .

中国专利 :CN1652661A ,2005-08-10

[3]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

[4]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

李勇锡 ;

郑石源 ;

许明洙 ;

安美罗 .

中国专利 :CN104576282A ,2015-04-29

[5]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

宇井明生 ;

林久贵 ;

富冈和广 ;

山本洋 ;

今村翼 .

中国专利 :CN103681196A ,2014-03-26

[6]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

山崎圭一 ;

猪冈结希子 ;

泽田康志 ;

田口典幸 ;

中园佳幸 ;

仲野章生 .

中国专利 :CN1165208C ,2002-02-06

[7]

等离子体处理设备以及等离子体处理方法 [P].

黄振华 .

中国专利 :CN113035677B ,2021-06-25

[8]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

岩井哲博 ;

有田洁 .

中国专利 :CN1669109A ,2005-09-14

[9]

等离子体处理方法和等离子体处理设备 [P].

奥村智洋 ;

佐佐木雄一朗 ;

冈下胜己 ;

金成国 ;

前嶋聪 ;

伊藤裕之 ;

中山一郎 ;

水野文二 .

中国专利 :CN101053066A ,2007-10-10

[10]

等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统 [P].

范德宏 ;

左涛涛 .

中国专利 :CN112117176A ,2020-12-22

← 1 2 3 4 5 →