一种新型等离子体增强原子层沉积设备和等离子体辅助原子层沉积薄膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510279526.6

申请日：

2025-03-11

公开(公告)号：

CN120099494A

公开(公告)日：

2025-06-06

发明(设计)人：

连水养张志轩吴金龙张婧王伟昌

申请人：

厦门芯壹方科技有限公司

申请人地址：

361000 福建省厦门市集美区理工路600号逸夫楼1号楼308室94单元

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/30 C23C16/50 C23C16/44 H01J37/32

代理机构：

厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218

代理人：

刘小勤

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-06	公开	公开
2025-06-24	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20250311

共 50 条

[1]

等离子体增强原子层沉积设备 [P].

王东君 .

中国专利 :CN203174200U ,2013-09-04

[2]

等离子体增强原子层沉积设备 [P].

朱雨 .

中国专利 :CN119144944B ,2025-08-22

[3]

等离子体增强原子层沉积设备 [P].

朱雨 .

中国专利 :CN119144944A ,2024-12-17

[4]

等离子体增强原子层沉积(PEALD)设备 [P].

J·帕茨谢德尔 ;

H·罗尔曼 ;

J·维查尔特 ;

F·布里特 .

中国专利 :CN112771201A ,2021-05-07

[5]

等离子体增强原子层沉积设备及方法 [P].

秦海丰 ;

郑波 ;

史小平 ;

兰云峰 ;

张文强 ;

王昊 ;

任晓艳 .

中国专利 :CN113106422A ,2021-07-13

[6]

等离子体增强原子层沉积系统和方法 [P].

松田司 .

中国专利 :CN101147248A ,2008-03-19

[7]

等离子体增强原子层沉积设备及方法 [P].

张昊 ;

国政 ;

李英万 ;

彭奕博 ;

伊明辉 ;

姚立柱 ;

刘连瑞 ;

张丛 .

中国专利 :CN120575157A ,2025-09-02

[8]

等离子体增强原子层沉积设备及方法 [P].

张昊 ;

国政 ;

李英万 ;

刘连瑞 ;

姚立柱 .

中国专利 :CN120425321A ,2025-08-05

[9]

等离子体增强原子层沉积设备及方法 [P].

张昊 ;

国政 ;

李英万 ;

刘连瑞 ;

姚立柱 .

中国专利 :CN120425321B ,2025-09-12

[10]

微波等离子体辅助原子层沉积设备 [P].

王东君 ;

陈宇林 ;

郭敏 .

中国专利 :CN218146935U ,2022-12-27

← 1 2 3 4 5 →