一种高纯钛溅射靶材的制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510397607.6

申请日：

2025-04-01

公开(公告)号：

CN120138584A

公开(公告)日：

2025-06-13

发明(设计)人：

王旭彪吴金平刘承泽王作华刘未

申请人：

西安稀有金属材料研究院有限公司

申请人地址：

710000 陕西省西安市高新区天谷七路996号西安国家数字出版基地C座2层

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C22F1/18 C21D9/00 B21C37/02 C22F1/02

代理机构：

西安创知专利事务所 61213

代理人：

魏法祥

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

陕西省西安市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-01	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20250401
2025-08-12	授权	授权
2025-06-13	公开	公开

共 50 条

[1]

一种高纯钛溅射靶材的制备方法 [P].

王旭彪 ;

吴金平 ;

刘承泽 ;

王作华 ;

刘未 .

中国专利 :CN120138584B ,2025-08-12

[2]

一种高纯钴溅射靶材的制备方法、高纯钴溅射靶材及应用 [P].

王兴权 ;

李勇军 ;

罗俊锋 ;

何金江 ;

徐国进 ;

丁照崇 ;

刘丹 ;

朱孜毅 .

中国专利 :CN116288237B ,2025-09-02

[3]

一种高纯镁溅射靶材及其制备方法 [P].

余恒飞 ;

黄宇彬 ;

毛远兴 ;

邵郑伟 ;

陈子洋 ;

童培云 .

中国专利 :CN115948718B ,2024-06-07

[4]

一种用于半导体溅射靶材的高纯钛锭开坯锻造方法 [P].

吴景晖 ;

姚力军 ;

杜全国 ;

雷孝吕 ;

李红洋 .

中国专利 :CN108746448B ,2018-11-06

[5]

一种高纯钛溅射靶材用焊接设备 [P].

黄炳炎 ;

吕培聪 ;

黄天乐 ;

吕森姣 .

中国专利 :CN119457587A ,2025-02-18

[6]

一种高纯铝管溅射靶材的制备方法 [P].

吴本明 ;

文宏福 .

中国专利 :CN110484874A ,2019-11-22

[7]

一种高纯铜溅射靶材的制备方法 [P].

赵忠耿 .

中国专利 :CN102146554A ,2011-08-10

[8]

一种高纯钼溅射靶材的制备方法 [P].

安耿 ;

刘仁智 ;

李晶 ;

历学武 .

中国专利 :CN101956159A ,2011-01-26

[9]

一种高纯钌溅射靶材的制备方法 [P].

逯峙 ;

游龙 ;

郭帅东 ;

王广欣 ;

韩超 ;

张鹏飞 ;

杨斌 ;

闫焉服 ;

孙浩亮 ;

李海涛 .

中国专利 :CN108642464A ,2018-10-12

[10]

一种高纯钼溅射靶材的制备方法 [P].

田长对 .

中国专利 :CN109811318A ,2019-05-28

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