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沟槽栅极型IGBT及其驱动方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410065355.2
申请日
:
2024-01-17
公开(公告)号
:
CN120166722A
公开(公告)日
:
2025-06-17
发明(设计)人
:
冈田哲也
仲敏行
申请人
:
上海韦尔半导体股份有限公司
申请人地址
:
201205 上海市浦东新区龙东大道3000号张江集电港一期4号楼(C楼)7F
IPC主分类号
:
H10D12/00
IPC分类号
:
H10D12/01
H10D64/27
H10D62/10
代理机构
:
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
:
赵超
法律状态
:
公开
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-06-17
公开
公开
共 50 条
[1]
沟槽栅极型IGBT及其驱动方法
[P].
冈田哲也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
冈田哲也
;
新井宽己
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
上海韦尔半导体股份有限公司
上海韦尔半导体股份有限公司
新井宽己
.
中国专利
:CN118825054A
,2024-10-22
[2]
沟槽栅极IGBT
[P].
神田良
论文数:
0
引用数:
0
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0
神田良
;
松浦仁
论文数:
0
引用数:
0
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0
松浦仁
;
菊地修一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
菊地修一
.
中国专利
:CN108231865A
,2018-06-29
[3]
IE型沟槽栅极IGBT
[P].
松浦仁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松浦仁
.
中国专利
:CN103199108B
,2013-07-10
[4]
IE型沟槽栅极IGBT
[P].
松浦仁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松浦仁
.
中国专利
:CN203250742U
,2013-10-23
[5]
IE型沟槽栅极IGBT
[P].
松浦仁
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
松浦仁
.
中国专利
:CN107731896A
,2018-02-23
[6]
改善沟槽型IGBT 栅极击穿能力的制备方法
[P].
迟延庆
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
迟延庆
.
中国专利
:CN103578967A
,2014-02-12
[7]
带有掩埋浮动P‑型屏蔽的双栅极沟槽IGBT
[P].
胡军
论文数:
0
引用数:
0
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0
胡军
;
马督儿·博德
论文数:
0
引用数:
0
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0
马督儿·博德
;
哈姆扎·依玛兹
论文数:
0
引用数:
0
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0
哈姆扎·依玛兹
.
中国专利
:CN104051509B
,2014-09-17
[8]
沟槽栅型IGBT及其制造方法
[P].
韩燕楚
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯联集成电路制造股份有限公司
芯联集成电路制造股份有限公司
韩燕楚
.
中国专利
:CN119486165A
,2025-02-18
[9]
沟槽型IGBT器件及其制造方法
[P].
朱袁正
论文数:
0
引用数:
0
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0
朱袁正
;
李宗清
论文数:
0
引用数:
0
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0
李宗清
.
中国专利
:CN103985746A
,2014-08-13
[10]
纵型沟槽IGBT及其制造方法
[P].
藤井秀纪
论文数:
0
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0
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0
藤井秀纪
.
中国专利
:CN103311121B
,2013-09-18
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