沟槽栅极型IGBT及其驱动方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410065355.2
申请日
2024-01-17
公开(公告)号
CN120166722A
公开(公告)日
2025-06-17
发明(设计)人
冈田哲也 仲敏行
申请人
上海韦尔半导体股份有限公司
申请人地址
201205 上海市浦东新区龙东大道3000号张江集电港一期4号楼(C楼)7F
IPC主分类号
H10D12/00
IPC分类号
H10D12/01 H10D64/27 H10D62/10
代理机构
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人
赵超
法律状态
公开
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
沟槽栅极型IGBT及其驱动方法 [P]. 
冈田哲也 ;
新井宽己 .
中国专利 :CN118825054A ,2024-10-22
[2]
沟槽栅极IGBT [P]. 
神田良 ;
松浦仁 ;
菊地修一 .
中国专利 :CN108231865A ,2018-06-29
[3]
IE型沟槽栅极IGBT [P]. 
松浦仁 .
中国专利 :CN103199108B ,2013-07-10
[4]
IE型沟槽栅极IGBT [P]. 
松浦仁 .
中国专利 :CN203250742U ,2013-10-23
[5]
IE型沟槽栅极IGBT [P]. 
松浦仁 .
中国专利 :CN107731896A ,2018-02-23
[6]
改善沟槽型IGBT 栅极击穿能力的制备方法 [P]. 
迟延庆 .
中国专利 :CN103578967A ,2014-02-12
[7]
带有掩埋浮动P‑型屏蔽的双栅极沟槽IGBT [P]. 
胡军 ;
马督儿·博德 ;
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中国专利 :CN104051509B ,2014-09-17
[8]
沟槽栅型IGBT及其制造方法 [P]. 
韩燕楚 .
中国专利 :CN119486165A ,2025-02-18
[9]
沟槽型IGBT器件及其制造方法 [P]. 
朱袁正 ;
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[10]
纵型沟槽IGBT及其制造方法 [P]. 
藤井秀纪 .
中国专利 :CN103311121B ,2013-09-18