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光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380082774.0
申请日
:
2023-12-12
公开(公告)号
:
CN120303620A
公开(公告)日
:
2025-07-11
发明(设计)人
:
黑泽伸也
杉本和志
曾根昌弥
玉井聪
宫下欣树
申请人
:
三菱瓦斯化学株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
G03F7/42
IPC分类号
:
C11D7/32
C11D7/50
H05K3/00
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
李茂家;石腾飞
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-11
公开
公开
2025-07-29
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/42申请日:20231212
共 50 条
[1]
光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法
[P].
黑泽伸也
论文数:
0
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0
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0
机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
黑泽伸也
;
杉本和志
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
杉本和志
;
曾根昌弥
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
曾根昌弥
;
玉井聪
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
玉井聪
;
宫下欣树
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
宫下欣树
.
日本专利
:CN120359472A
,2025-07-22
[2]
光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法
[P].
黑泽伸也
论文数:
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0
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
黑泽伸也
;
杉本和志
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
杉本和志
;
曾根昌弥
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
曾根昌弥
;
玉井聪
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
玉井聪
;
宫下欣树
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机构:
三菱瓦斯化学株式会社
三菱瓦斯化学株式会社
宫下欣树
.
日本专利
:CN120303619A
,2025-07-11
[3]
光致抗蚀剂去除用组合物
[P].
内藤幸英
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内藤幸英
;
大前健祐
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大前健祐
;
松永裕嗣
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松永裕嗣
;
玉井聪
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玉井聪
.
中国专利
:CN114207529A
,2022-03-18
[4]
光致抗蚀剂去除剂组合物
[P].
R·阿伦特
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R·阿伦特
;
吴恒鹏
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吴恒鹏
;
林观阳
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林观阳
.
中国专利
:CN111512239A
,2020-08-07
[5]
光致抗蚀剂去除剂组合物
[P].
R·阿伦特
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
R·阿伦特
;
吴恒鹏
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
吴恒鹏
;
林观阳
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
林观阳
.
德国专利
:CN111512239B
,2024-05-03
[6]
光致抗蚀剂去除剂
[P].
曹远美
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曹远美
;
M·费尼斯
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M·费尼斯
;
王莉莉
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王莉莉
;
孙来生
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孙来生
;
吴爱萍
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吴爱萍
.
中国专利
:CN114502708A
,2022-05-13
[7]
光致抗蚀剂去除剂组合物
[P].
吴恒鹏
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
吴恒鹏
;
R·阿伦特
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
R·阿伦特
.
德国专利
:CN114080571B
,2025-04-04
[8]
光致抗蚀剂去除剂组合物
[P].
吴恒鹏
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吴恒鹏
;
林观阳
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0
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0
林观阳
.
中国专利
:CN111527453A
,2020-08-11
[9]
光致抗蚀剂去除剂组合物
[P].
吴恒鹏
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吴恒鹏
;
R·阿伦特
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R·阿伦特
.
中国专利
:CN114080571A
,2022-02-22
[10]
光致抗蚀剂去除剂组合物
[P].
吴恒鹏
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
吴恒鹏
;
林观阳
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机构:
默克专利股份有限公司
默克专利股份有限公司
林观阳
.
德国专利
:CN111527453B
,2024-10-11
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