光致抗蚀剂去除剂

被引：0

申请号：

CN202080068645.2

申请日：

2020-09-28

公开(公告)号：

CN114502708A

公开(公告)日：

2022-05-13

发明(设计)人：

曹远美 M·费尼斯王莉莉孙来生吴爱萍

申请人：

申请人地址：

美国亚利桑那州

IPC主分类号：

C11D710

IPC分类号：

C11D726 C11D732 C11D750 C11D760 C11D1100 G03F742 H01L21311

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

吴亦华;徐志明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-05-13	公开	公开

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂去除机台以及光致抗蚀剂去除工艺 [P].

吴瑞鸿 ;

方建章 ;

张凤如 ;

杨思宏 ;

萧士杰 .

中国专利 :CN101571678A ,2009-11-04

[2]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

R·阿伦特 .

德国专利 :CN114080571B ,2025-04-04

[3]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

R·阿伦特 ;

吴恒鹏 ;

林观阳 .

中国专利 :CN111512239A ,2020-08-07

[4]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

R·阿伦特 ;

吴恒鹏 ;

林观阳 .

德国专利 :CN111512239B ,2024-05-03

[5]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

林观阳 .

中国专利 :CN111527453A ,2020-08-11

[6]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

R·阿伦特 .

中国专利 :CN114080571A ,2022-02-22

[7]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

林观阳 .

德国专利 :CN111527453B ,2024-10-11

[8]

光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法 [P].

黑泽伸也 ;

杉本和志 ;

曾根昌弥 ;

玉井聪 ;

宫下欣树 .

日本专利 :CN120359472A ,2025-07-22

[9]

光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法 [P].

黑泽伸也 ;

杉本和志 ;

曾根昌弥 ;

玉井聪 ;

宫下欣树 .

日本专利 :CN120303619A ,2025-07-11

[10]

光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法 [P].

黑泽伸也 ;

杉本和志 ;

曾根昌弥 ;

玉井聪 ;

宫下欣树 .

日本专利 :CN120303620A ,2025-07-11

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