光致抗蚀剂去除机台以及光致抗蚀剂去除工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810096212.9

申请日：

2008-04-30

公开(公告)号：

CN101571678A

公开(公告)日：

2009-11-04

发明(设计)人：

吴瑞鸿方建章张凤如杨思宏萧士杰

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹市

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

隆天国际知识产权代理有限公司

代理人：

陈晨;张浴月

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-11-23	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101218505518 IPC(主分类):G03F 7/42 专利申请号:2008100962129 公开日:20091104
2009-12-30	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-11-04	公开	公开

共 50 条

[1]

光致抗蚀剂去除剂 [P].

曹远美 ;

M·费尼斯 ;

王莉莉 ;

孙来生 ;

吴爱萍 .

中国专利 :CN114502708A ,2022-05-13

[2]

光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法 [P].

黑泽伸也 ;

杉本和志 ;

曾根昌弥 ;

玉井聪 ;

宫下欣树 .

日本专利 :CN120359472A ,2025-07-22

[3]

光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法 [P].

黑泽伸也 ;

杉本和志 ;

曾根昌弥 ;

玉井聪 ;

宫下欣树 .

日本专利 :CN120303619A ,2025-07-11

[4]

光致抗蚀剂去除用组合物及光致抗蚀剂的去除方法 [P].

黑泽伸也 ;

杉本和志 ;

曾根昌弥 ;

玉井聪 ;

宫下欣树 .

日本专利 :CN120303620A ,2025-07-11

[5]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

R·阿伦特 .

德国专利 :CN114080571B ,2025-04-04

[6]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

R·阿伦特 ;

吴恒鹏 ;

林观阳 .

中国专利 :CN111512239A ,2020-08-07

[7]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

R·阿伦特 ;

吴恒鹏 ;

林观阳 .

德国专利 :CN111512239B ,2024-05-03

[8]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

林观阳 .

中国专利 :CN111527453A ,2020-08-11

[9]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

R·阿伦特 .

中国专利 :CN114080571A ,2022-02-22

[10]

光致抗蚀剂去除剂组合物 [P].

吴恒鹏 ;

林观阳 .

德国专利 :CN111527453B ,2024-10-11

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