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形成半导体器件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411949119.3
申请日
:
2024-12-27
公开(公告)号
:
CN120236996A
公开(公告)日
:
2025-07-01
发明(设计)人
:
林秀姃
张珉敬
辛炫佑
裴荣恩
沈载桓
申请人
:
杜邦电子材料国际有限责任公司
申请人地址
:
美国马萨诸塞州
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
H01L21/768
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
徐鑫;陈哲锋
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-01
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
尤宏志
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尤宏志
;
陈建茂
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陈建茂
.
中国专利
:CN109786365B
,2019-05-21
[2]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
朱峯庆
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朱峯庆
;
李威养
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李威养
;
杨丰诚
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杨丰诚
;
陈燕铭
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陈燕铭
.
中国专利
:CN113284850A
,2021-08-20
[3]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
杨挺立
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杨挺立
;
蔡柏豪
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蔡柏豪
;
郑明达
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郑明达
;
庄咏涵
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庄咏涵
;
王学圣
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王学圣
.
中国专利
:CN114464545A
,2022-05-10
[4]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
朱峯庆
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
朱峯庆
;
李威养
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李威养
;
杨丰诚
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
杨丰诚
;
陈燕铭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈燕铭
.
中国专利
:CN113284850B
,2025-08-22
[5]
半导体器件以及形成半导体器件的方法
[P].
朱慧珑
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朱慧珑
;
林红
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林红
.
中国专利
:CN101097955A
,2008-01-02
[6]
形成半导体器件的方法和半导体器件
[P].
贵岛正人
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贵岛正人
;
针贝笃史
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针贝笃史
.
中国专利
:CN100501972C
,2006-09-13
[7]
半导体器件及形成半导体器件的方法
[P].
李炅奂
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李炅奂
;
姜昌锡
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姜昌锡
;
金容锡
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金容锡
;
金森宏治
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金森宏治
;
金熙中
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金熙中
;
林浚熙
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林浚熙
.
中国专利
:CN110391332A
,2019-10-29
[8]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
杨海宁
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杨海宁
;
杰克·A.·曼德尔曼
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杰克·A.·曼德尔曼
;
李伟健
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李伟健
.
中国专利
:CN101159256A
,2008-04-09
[9]
半导体器件和形成半导体器件的方法
[P].
S·拜尔
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S·拜尔
;
M·A·博代亚
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M·A·博代亚
;
黄佳艺
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黄佳艺
.
中国专利
:CN111009499A
,2020-04-14
[10]
半导体器件,测试半导体器件的方法和形成半导体器件的方法
[P].
M.科托罗贾
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M.科托罗贾
;
E.格里布尔
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E.格里布尔
;
J.G.拉文
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J.G.拉文
;
A.菲利波
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A.菲利波
.
中国专利
:CN107665882B
,2018-02-06
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