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ポリシリコンをエッチングするための方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20240573454
申请日
:
2023-06-16
公开(公告)号
:
JP2025519682A
公开(公告)日
:
2025-06-26
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/306
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6700571B1
,2020-05-27
[2]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7352809B2
,2023-09-29
[3]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7545088B2
,2024-09-04
[4]
シリコン酸化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020054476A1
,2020-10-22
[5]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009136558A1
,2011-09-08
[6]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011040484A1
,2013-02-28
[7]
シリコン窒化物のエッチング方法及びエッチング装置[ja]
[P].
SUZUKI SHOI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CENTRAL GLASS CO LTD
CENTRAL GLASS CO LTD
SUZUKI SHOI
;
YAO AKIFUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
CENTRAL GLASS CO LTD
CENTRAL GLASS CO LTD
YAO AKIFUMI
.
日本专利
:JP2024152901A
,2024-10-25
[8]
ガスパルスを用いる深掘りシリコンエッチングのための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016537830A
,2016-12-01
[9]
シリコン酸化膜のドライエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025179834A
,2025-12-10
[10]
官能化エチレン系ポリマーを生成するための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019532152A
,2019-11-07
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