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用于提供水分和质子阻挡部的集成电路器件的钝化层
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510408139.8
申请日
:
2021-12-15
公开(公告)号
:
CN120261403A
公开(公告)日
:
2025-07-04
发明(设计)人
:
吴邕辉
阮文征
F·塔希尔
D·阿德南
唐文杰
M·G·卡斯托里纳
申请人
:
意法半导体有限公司
申请人地址
:
新加坡城
IPC主分类号
:
H01L23/29
IPC分类号
:
H01L23/31
H10D30/66
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
张宁;闫昊
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-22
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 23/29申请日:20211215
2025-07-04
公开
公开
共 50 条
[41]
用于集成电路的器件模拟方法
[P].
王财福
论文数:
0
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0
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机构:
佛山声码电子科技有限公司
佛山声码电子科技有限公司
王财福
;
王浩
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机构:
佛山声码电子科技有限公司
佛山声码电子科技有限公司
王浩
;
黄格
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机构:
佛山声码电子科技有限公司
佛山声码电子科技有限公司
黄格
.
中国专利
:CN119129499A
,2024-12-13
[42]
集成电路和提供静电放电保护的集成电路
[P].
F·泰利特
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0
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0
机构:
意法半导体国际公司
意法半导体国际公司
F·泰利特
.
:CN221530980U
,2024-08-13
[43]
集成电路的氢钝化
[P].
G·B·巴瑟姆
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G·B·巴瑟姆
;
S·R·萨默菲尔特
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S·R·萨默菲尔特
;
T·S·莫伊兹
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T·S·莫伊兹
.
中国专利
:CN103262223A
,2013-08-21
[44]
封装的集成电路器件
[P].
孔炳植
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孔炳植
.
中国专利
:CN1201254A
,1998-12-09
[45]
半导体集成电路器件和制造半导体集成电路器件的方法
[P].
谷口泰弘
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谷口泰弘
;
宿利章二
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宿利章二
;
黑田谦一
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黑田谦一
;
池田修二
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池田修二
;
桥本孝司
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桥本孝司
.
中国专利
:CN1516259A
,2004-07-28
[46]
集成电路器件和包括该集成电路器件的数据存储系统
[P].
金智源
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金智源
;
金度亨
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金度亨
;
金志荣
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金志荣
;
成锡江
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
成锡江
.
韩国专利
:CN117337043A
,2024-01-02
[47]
集成电路器件的保护
[P].
F·彼得森
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机构:
北欧半导体公司
北欧半导体公司
F·彼得森
.
:CN120188161A
,2025-06-20
[48]
封装的集成电路器件
[P].
朴相昱
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朴相昱
;
白亨吉
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白亨吉
.
中国专利
:CN1119833C
,1999-01-20
[49]
钽化合物、制造集成电路器件的方法和集成电路器件
[P].
柳承旻
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柳承旻
;
林载顺
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林载顺
;
曹仑廷
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曹仑廷
;
小出幸宜
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小出幸宜
;
山田直树
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山田直树
;
白鸟翼
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白鸟翼
.
中国专利
:CN106977540B
,2017-07-25
[50]
集成电路器件和包括该集成电路器件的电子系统
[P].
崔贤默
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
崔贤默
.
韩国专利
:CN119031722A
,2024-11-26
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