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双光源基板图像量测系统及其方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411820473.6
申请日
:
2024-12-11
公开(公告)号
:
CN120232856A
公开(公告)日
:
2025-07-01
发明(设计)人
:
邹嘉骏
林伯聪
黄冠勋
张勋豪
申请人
:
由田新技股份有限公司
申请人地址
:
中国台湾新北市中和区连城路268号10楼之1
IPC主分类号
:
G01N21/64
IPC分类号
:
G01N21/88
G01B11/02
G01B11/00
代理机构
:
北京维澳知识产权代理有限公司 11252
代理人
:
曾晨
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-07-18
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G01N 21/64申请日:20241211
2025-07-01
公开
公开
共 50 条
[1]
双光源基板图像三维信息量测系统及方法
[P].
邹嘉骏
论文数:
0
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0
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
邹嘉骏
;
林伯聪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
林伯聪
;
黄冠勋
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
黄冠勋
;
张勋豪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
张勋豪
.
中国专利
:CN120232855A
,2025-07-01
[2]
基于荧光的基板图像量测系统及其方法
[P].
邹嘉骏
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
邹嘉骏
;
林伯聪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
林伯聪
;
黄冠勋
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
黄冠勋
;
张勋豪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
张勋豪
.
中国专利
:CN120232853A
,2025-07-01
[3]
基板量测系统及其方法
[P].
邹嘉骏
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邹嘉骏
;
林伯聪
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林伯聪
;
黄冠勋
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黄冠勋
;
张勋豪
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张勋豪
.
中国专利
:CN113390894A
,2021-09-14
[4]
基于图像的基板电性量测系统及其方法
[P].
邹嘉骏
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
邹嘉骏
;
王人杰
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
王人杰
;
林伯聪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
林伯聪
;
黄冠勋
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
黄冠勋
;
张勋豪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
张勋豪
;
许志全
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
许志全
.
中国专利
:CN120233145A
,2025-07-01
[5]
荧光影像量测系统及其方法
[P].
邹嘉骏
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
邹嘉骏
;
林伯聪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
林伯聪
;
黄冠勋
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由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
黄冠勋
;
张勋豪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
张勋豪
.
中国专利
:CN120232854A
,2025-07-01
[6]
光学量测系统、光学量测装置及其量测方法
[P].
吴世傑
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0
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吴世傑
;
林典瑩
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林典瑩
;
林辰泰
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林辰泰
;
庄世昌
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庄世昌
.
中国专利
:CN109282750B
,2019-01-29
[7]
取样量测系统及其取样量测方法
[P].
陈彧
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0
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陈彧
.
中国专利
:CN106952842A
,2017-07-14
[8]
量测系统、量测方法及其计量量测装置
[P].
刘颖昌
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刘颖昌
;
戴君如
论文数:
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戴君如
.
中国专利
:CN102401880A
,2012-04-04
[9]
自动基板切片制作方法、量测方法、制作系统及量测系统
[P].
邹嘉骏
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
邹嘉骏
;
王人杰
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
王人杰
;
林伯聪
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
林伯聪
;
赖明正
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机构:
由田新技股份有限公司
由田新技股份有限公司
赖明正
.
中国专利
:CN119618762A
,2025-03-14
[10]
量测系统及其量测参数设置方法
[P].
孙晓辉
论文数:
0
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0
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孙晓辉
.
中国专利
:CN109903708A
,2019-06-18
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