一种真空溅射镀膜设备

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专利类型
发明
申请号
CN202510655536.5
申请日
2025-05-21
公开(公告)号
CN120249921A
公开(公告)日
2025-07-04
发明(设计)人
郭鸿杰 徐子鹏 张浩辉
申请人
杭州星河材料科技有限公司
申请人地址
310000 浙江省杭州市临安区青山湖街道大园路1155号创业广场B座813室
IPC主分类号
C23C14/56
IPC分类号
C23C14/34
代理机构
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人
杨杰
法律状态
公开
国省代码
浙江省 杭州市
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共 50 条
[1]
真空溅射镀膜设备 [P]. 
黄国兴 .
中国专利 :CN201704398U ,2011-01-12
[2]
真空溅射镀膜设备 [P]. 
徐中邦 ;
王福平 .
中国专利 :CN208701195U ,2019-04-05
[3]
真空溅射镀膜设备 [P]. 
黄国兴 .
中国专利 :CN101928924A ,2010-12-29
[4]
真空溅射镀膜系统及真空溅射镀膜方法 [P]. 
林松涛 .
中国专利 :CN118639196A ,2024-09-13
[5]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
闫都伦 ;
王克斌 ;
吴细标 ;
唐贵民 .
中国专利 :CN204803396U ,2015-11-25
[6]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
王振东 ;
何万能 .
中国专利 :CN207483836U ,2018-06-12
[7]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
胡兴微 ;
蒋玉东 .
中国专利 :CN212152430U ,2020-12-15
[8]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
王振东 ;
何万能 .
中国专利 :CN107523792A ,2017-12-29
[9]
一种真空溅射镀膜靶 [P]. 
张彬 ;
张金宝 .
中国专利 :CN223509944U ,2025-11-04
[10]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
胡兴微 ;
蒋玉东 .
中国专利 :CN212175030U ,2020-12-18